Large-Area and High-Speed Deposition of Microcrystalline Silicon Film by Inductive Coupled Plasma using Internal Low-Inductance Antenna
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概要
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- Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physicsの論文
- 2007-03-30
著者
-
節原 裕一
国立大学法人大阪大学接合科学研究所
-
HAYASHI Tsukasa
Nissin Electric Co.
-
Hayashi Tsukasa
Nissin Electric Co. Ltd R&d Laboratories
-
SETSUHARA Yuichi
Osaka University
-
TAKAHASHI Eiji
Nissin Electric Co., Ltd. Process Research Center R&D Laboratories
-
OGATA Kiyoshi
Nissin Electric Co., Ltd. Process Research Center R&D Laboratories
-
NISHIGAMI Yasuaki
Nissin Electric Co., Ltd, R&D Laboratories
-
TOMYO Atsushi
Nissin Electric Co., Ltd, R&D Laboratories
-
FUJIWARA Masaki
Nissin Electric Co., Ltd, R&D Laboratories
-
KAKI Hirokazu
Nissin Electric Co., Ltd, R&D Laboratories
-
KUBOTA Kiyoshi
Nissin Electric Co., Ltd, R&D Laboratories
-
EBE Akinori
EMD Corp.
-
Tomyo Atsushi
Nissin Electric Co. Ltd R&d Laboratories
-
Kaki Hirokazu
Nissin Electric Co. Ltd R&d Laboratories
-
Kubota Kazuyoshi
Atr Adaptive Communications Research Laboratories
-
Nishigami Yasuaki
Nissin Electric Co. Ltd R&d Laboratories
-
Ogata Kiyoshi
Nissin Electric Co. Ltd. Kyoto Jpn
-
Ogata Kiyoshi
Nissin Electric Co. Ltd R&d Laboratories
-
Kubota Kiyoshi
Nissin Electric Co. Ltd R&d Laboratories
-
Hayashi Tsukasa
Nissin Electric Co. Ltd. R&d Laboratories
-
Setsuhara Yuichi
Osaka University Joining And Welding Research Institute
-
Takahashi Eiji
Nissin Electric Co. Ltd R&d Laboratories
-
Fujiwara Masaki
Nissin Electric Co. Ltd R&d Laboratories
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