大竹 浩人 | 東北大

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概要

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• 東北大の論文著者

関連著者

• 大竹 浩人

  東北大

• 林 喜宏

  NECシリコンシステム研究所

• 林 喜宏

  半導体MIRAI-ASET

• 林 喜宏

  マイクロエレクトロニクス研究所

• 林 喜宏

  日本電気株式会社

• 多田 宗弘

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 林 喜宏

  Necエレクトロニクス Lsi基礎開研

• 田上 政由

  Necエレクトロニクス株式会社lsi基礎開発研究所

• 林 喜宏

  Necエレクトロニクス株式会社 Lsi基礎開発研究所

• 斉藤 忍

  NECシステムデバイス研究所

• 林 喜宏

  NECシステムデバイス研究所

• 大竹 浩人

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 林 喜宏

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 斎藤 忍

  Necエレクトロニクスlsi基礎開発研究所

• 林 喜宏

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 伊藤 文則

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 小野寺 貴弘

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 阿部 真理

  NECシステムデバイス研究所

• 田上 政由

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 多田 宗弘

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 原田 恵充

  NECシステムデバイス研究所

• 古武 直也

  Necエレクトロニクス株式会社lsi基礎開発研究所

• 植木 誠

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 竹内 常雄

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 成広 充

  NECシステムデバイス研究所

• 原田 恵充

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 新井 浩一

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 小野寺 貴弘

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 古武 直也

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 植木 誠

  東北大学:(現)新日本製鐵(株)

• 関根 誠

  名古屋大学

• 関根 誠

  名大

• 井上 尚也

  大阪府立大学工学部情報工学科

• 多田 宗弘

  NECシステムデバイス研究所

• 伊藤 文則

  NECシステムデバイス研究所

• 植木 誠

  NECシステムデバイス研究所

• 伊藤 文則

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 阿部 真理

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 竹内 常雄

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 廣井 政幸

  NECエレクトロニクス株式会社

• 関根 誠

  NECエレクトロニクス株式会社

• 大竹 浩人

  NECシステムデバイス研究所

• 田上 政由

  NECシステムデバイス研究所

• 肱岡 健一郎

  NECシステムデバイス研究所

• 木下 啓蔵

  NEC

• 斎藤 忍

  日本電気株式会社シリコンシステム研究所

• 肱岡 健一郎

  Necエレクトロニクス

• 肱岡 健一郎

  青山学院大学電気電子工学科

• 井上 尚也

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 小田 昭紀

  名古屋工業大学

• 節原 裕一

  阪大溶接研

• 畠山 力三

  東北大院工

• 金子 俊郎

  東北大院工

• 神谷 利夫

  東工大応セラ研

• 山本 博規

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 井上 尚也

  NECシステムデバイス研究所

• 竹内 常雄

  NECシステムデバイス研究所

• 古武 直也

  NECシステムデバイス研究所

• 小野寺 貴弘

  NECシステムデバイス研究所

• 植木 誠

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 成廣 充

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 井上 尚也

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 齋藤 忍

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 田村 貴央

  NECELプロセス技術事業部

• 吉木 政行

  NECシステムデバイス研究所

• 新井 浩一

  NECシステムデバイス研究所

• 藤井 清

  NECELプロセス技術事業部

• 成広 充

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 斉藤 忍

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 山本 博規

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 小田 典明

  NECエレクトロニクス株式会社

• 太田 貴之

  和歌山大学

• 一木 隆範

  東大院・工・バイオエンジニアリング

• 植木 誠

  日本電気株式会杜

• 土澤 泰

  Nttマイクロシステムインテグレーション研究所

• 吉村 智

  阪大超高温

• 野崎 智洋

  東京工業大学

• 辰巳 哲也

  ソニー(株)半導体事業本部セミコンダクターテクノロジー開発部門

• 辰巳 哲也

  技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室

• 菅原 広剛

  北海道大学

• 白井 肇

  埼玉大

• 白谷 正治

  九大院システム情報

• 中村 圭二

  中部大学

• Park Chon-Yun

  成均館大理

• 林 信哉

  佐賀大学理工学部

• 野崎 智洋

  東工大

• 中村 圭二

  中部大学工学部

• 小田 典明

  Necエレクトロニクス(株)

• 中村 圭二

  中部大

• 江利口 浩二

  京大工

• 川原 潤

  半導体MIRAI-ASET

• 木下 啓蔵

  半導体MIRAI-ASET

• 永津 雅章

  静大工

• 長谷川 明広

  富士通株式会社

• 永津 雅章

  静岡大学創造科学技術大学院

• 明石 治朗

  防衛大学校

• 豊田 浩孝

  名大工

• 大岩 徳久

  東芝

• 中石 雅文

  富士通

• 中村 敏浩

  京大

• 中川 秀夫

  パナソニック

• 檜森 慎司

  東京エレクトロン

• 小田 昭紀

  名工大

• 菅原 広剛

  北大

• 平田 孝道

  都市大

• 佐野 紀彰

  京大

• 古閑 一憲

  九大

• 白藤 立

  名大

• 米倉 和賢

  ルネサス

• 森川 康宏

  アルバック

• 根岸 伸幸

  日立

• 高橋 和生

  京都工芸繊維大

• 秋元 健司

  NEC

• 奥村 智洋

  パナソニック

• 上坂 裕之

  名大

• 佐藤 孝紀

  室蘭工大

• 布村 正太

  産総研

• 柳生 義人

  佐世保高専

• 節原 裕一

  国立大学法人大阪大学接合科学研究所

• 節原 裕一

  阪大レーザー研

• 江利口 浩二

  京都大学大学院工学研究科

• 一木 隆範

  東洋大学・工

• 白井 肇

  埼玉大学大学院 理工学研究科 機能材料工学専攻

• 辰巳 哲也

  ソニー

• 林 信哉

  佐賀大学

• 林 信哉

  佐賀大

• 畠山 力三

  東北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻

• 佐藤 孝紀

  室蘭工業大学

• 有田 幸司

  Necエレクトロニクス

• Kohara Takao

  Basic Research Laboratory Himeji Institute Of Technology

• Kaneko Tetsuyuki

  Department Of Material Physics Faculty Of Engineering Science Osaka University

• 長谷川 明広

  富士通

• 根岸 伸幸

  日立製作所中央研究所

• 柳生 義人

  佐世保工業高等専門学校

• 古閑 一憲

  九大総理工

• 白谷 正治

  九大

• 吉村 智

  阪大

• 土澤 泰

  Ntt

• Kanomata T

  Tohoku Univ. Sendai

• 豊田 浩孝

  名古屋大学大学院工学研究科電気工学専攻

• 豊田 浩孝

  名大

• Kanbe Takafumi

  Department Of Physical Sciences Graduate School Of Science Hiroshima University

• 川原 潤

  Necエレクトロニクス

• 上坂 裕之

  名大院工機械

• Kaneko T

  Tohoku Univ. Sendai

• Kanomata T

  Institute For Materials Research Tohoku University

• 金子 俊郎

  東北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻

• 田村 貴央

  Necel

• 江利口 浩二

  京大

• 廣井 政幸

  日本電気株式会社シリコンシステム研究所

• 太田 貴之

  和歌山大

• 金子 俊郎

  東北大・工

• Kanomata Takeshi

  The Research Institute For Iron Steel And Metals Tohoku University

• 古閑 一憲

  九州大学

• 明石 治朗

  防衛大

• 永津 雅章

  静岡大学・創造科学技術大学院

• 一木 隆範

  東大

• 一木 隆範

  東京大学大学院工学系研究科バイオエンジニアリング専攻

• 神谷 利夫

  東工大

• 林 信哉

  佐賀大学大学院工学系研究科

• Kobayashi T

  College Of Liberal Arts Kobe University

• 木下 啓蔵

  半導体先端テクノロジーズ

• Kanomata T

  Faculty Of Engineering Tohoku Gakuin University

• 畠山 力三

  東北大 工

• Kaneko T

  Tohoku Univ. Sendai Jpn

• 一木 隆範

  東大 大学院工学系研究科

• Kaneko Takejiro

  The Research Institute For Iron Stee And Other Metals Tohoku University

• 白谷 正治

  九州大学

• 布村 正太

  産業技術総合研究所

• 一木 隆範

  東京大学 大学院工学系研究科 バイオエンジニアリング専攻

• 川原 潤

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 永津 雅章

  静大創造科技院,静大院工

• 上坂 裕之

  名古屋大学

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著作論文

• 低コストと高性能を両立させた65nmノード対応多層配線技術(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• 極薄ポアシールを用いた65nm-node対応多層配線(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
• 低酸素Cu合金を用いた45nm世代LSI対応デュアルダマシン配線(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
• 層間絶縁膜の空孔構造制御によるULSIデバイスの低消費電力化
• プラズマ・プロセス技術
• プラズマ重合法によるLow-k有機高分子膜成長技術とその応用( : 低誘電率層間膜及び配線技術)
• 表面改質エッチング技術を用いた高信頼性Cu/Low-k配線
• 目ずれマージンを確保した多層ハードマスク法によるデュアルダマシン形成(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)

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