川原 潤 | Necエレクトロニクス

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概要

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• 同名の論文著者
• Necエレクトロニクスの論文著者

関連著者

• 林 喜宏

  NECシリコンシステム研究所

• 林 喜宏

  半導体MIRAI-ASET

• 林 喜宏

  マイクロエレクトロニクス研究所

• 川原 潤

  Necエレクトロニクス

• 川原 潤

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 林 喜宏

  日本電気株式会社

• 林 喜宏

  Necエレクトロニクス株式会社 Lsi基礎開発研究所

• 林 喜宏

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 小野寺 貴弘

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 斉藤 忍

  NECシステムデバイス研究所

• 林 喜宏

  NECシステムデバイス研究所

• 斎藤 忍

  Necエレクトロニクスlsi基礎開発研究所

• 林 喜宏

  Necエレクトロニクス Lsi基礎開研

• 井上 尚也

  大阪府立大学工学部情報工学科

• 植木 誠

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 山本 博規

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 植木 誠

  東北大学:(現)新日本製鐵(株)

• 井上 尚也

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 木下 啓蔵

  NEC

• 木下 啓蔵

  半導体先端テクノロジーズ

• 古武 直也

  Necエレクトロニクス株式会社lsi基礎開発研究所

• 久米 一平

  Necエレクトロニクス

• 久米 一平

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 伊藤 文則

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 川原 潤

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 竹内 常雄

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 林 喜宏

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 多田 宗弘

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 田上 政由

  Necエレクトロニクス株式会社lsi基礎開発研究所

• 肱岡 健一郎

  Necエレクトロニクス

• 肱岡 健一郎

  青山学院大学電気電子工学科

• 林 喜宏

  ルネサスエレクトロニクス

• 川原 潤

  ルネサスエレクトロニクス 先行研究統括部

• 久米 一平

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 肱岡 健一郎

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 多田 宗弘

  NECシステムデバイス研究所

• 小野寺 貴弘

  NECシステムデバイス研究所

• 川原 潤

  NECシステムデバイス研究所

• 泰地 稔二

  NECELプロセス技術事業部

• 小野寺 貴弘

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 古武 直也

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 廣井 政幸

  NECエレクトロニクス株式会社

• 林 喜宏

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 川原 潤

  半導体MIRAI-ASET

• 木下 啓蔵

  半導体MIRAI-ASET

• 羽根 正巳

  NECエレクトロニクス株式会社LSI基礎開発研究所

• 高橋 宗司

  NECシリコンシステム研究所

• 羽根 正巳

  Necシステムデバイス・基礎研究本部

• 羽根 正巳

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 古武 直也

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 羽根 正巳

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 泰地 稔二

  ルネサスエレクトロニクス生産本部

• 笠間 佳子

  ルネサスエレクトロニクス生産本部

• 羽根 正巳

  ルネサスエレクトロニクス(株)

• 羽根 正巳

  ルネサスエレクトロニクス 先行研究統括部

• 田上 政由

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 井上 尚也

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 齋藤 忍

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 古武 直也

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 岡田 紀雄

  NECエレクトロニクス先端デバイス開発部

• 山本 博規

  NECシステムデバイス研究所

• 伊藤 文則

  NECシステムデバイス研究所

• 成広 充

  NECシステムデバイス研究所

• 植木 誠

  NECシステムデバイス研究所

• 井上 尚也

  NECシステムデバイス研究所

• 阿部 真理

  NECシステムデバイス研究所

• 竹内 常雄

  NECシステムデバイス研究所

• 古武 直也

  NECシステムデバイス研究所

• 笠間 佳子

  NECELプロセス技術事業部

• 戸原 誠

  NECELプロセス技術事業部

• 関根 誠

  NECELプロセス技術事業部

• 植木 誠

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 大竹 浩人

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 田上 政由

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 多田 宗弘

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 伊藤 文則

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 原田 恵充

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 竹内 常雄

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 齋藤 忍

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 原田 恵充

  NECシステムデバイス研究所

• 田上 政由

  NECシステムデバイス研究所

• 林 喜宏

  NEC シリコンシステム研究所

• 山本 博規

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 池田 昌弘

  Necエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 植木 誠

  日本電気株式会杜

• 藤井 邦宏

  NECエレクトロンデバイス先端デバイス開発本部(現)NECセミコンダクターズUK

• 小倉 卓

  (株)genusion

• 吉野 雄信

  半導体mirai-asrc-aist

• 風間 賢也

  NECマイクロコンピュータ事業部

• 石川 彰

  産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター半導体miraiプロジェクト

• 中野 昭典

  半導体mirai-aset

• 清野 豊

  産業総合研究所

• 本山 幸一

  NECエレクトロニクス(株)

• 関根 誠

  名古屋大学

• 国見 信孝

  半導体MIRAI-ASET

• 石川 彰

  半導体MIRAI-ASET

• 清野 豊

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 尾形 哲郎

  半導体MIRAI-ASET

• 高橋 秀樹

  半導体MIRAI-ASET

• 園田 譲

  半導体MIRAI-ASET

• 後藤 隆

  半導体MIRAI-ASET

• 高田 省三

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 市川 理恵

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 三好 秀典

  半導体MIRAI-ASET

• 松尾 尚典

  半導体MIRAI-ASET

• 足立 三郎

  半導体MIRAI-ASET

• 吉川 公麿

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 市川 理恵

  半導体mirai-asrc-aist

• 田辺 昭

  Necエレクトロニクス(株)

• 関根 誠

  名大

• 大竹 浩人

  東北大

• 武田 晃一

  NECシステムデバイス研究所

• 高田 省三

  半導体mirai-asrc-aist

• 有田 幸司

  Necエレクトロニクス

• 川原 潤

  日本電気株式会社デバイスプラットフォーム研究所

• 吉川 公麿

  広島大学:産業総合研究所

• 松尾 尚典

  技術研究組合 超先端電子技術開発機構半導体MIRAIプロジェクト

• 本山 幸一

  Necエレクトロニクス

• 深井 利憲

  NECエレクトロンデバイス先端デバイス開発本部

• 井口 学

  NECエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発部

• 武田 晃一

  NEC マイクロエレクトロニクス研究所

• 池田 昌弘

  Necエレクトロニクス

• 長瀬 寛和

  NECエレクトロニクス

• 北尾 良平

  NECエレクトロニクス

• 藤井 邦宏

  Necエレクトロニクス株式会社プロセス技術部

• 廣井 政幸

  日本電気株式会社シリコンシステム研究所

• 斎藤 忍

  日本電気株式会社シリコンシステム研究所

• 木下 啓蔵

  NECシステムデバイス基礎研究本部

• 宇佐美 達也

  NEC先端デバイス開発本部

• 廣井 政幸

  NECシステムデバイス基礎研究本部

• 利根川 丘

  NEC先端デバイス開発本部

• 柴 和利

  NEC先端デバイス開発本部

• 斎藤 忍

  NECシステムデバイス基礎研究本部

• 川原 潤

  NECシリコンシステム研究所

• 木下 啓蔵

  NECシリコンシステム研究所

• 斉藤 忍

  NECシリコンシステム研究所

• 小野寺 貴弘

  NECシリコンシステム研究所

• 武田 晃一

  Necエレクトロニクスlsi基礎開発研究所

• 深井 利憲

  Necエレクトロニクス

• 岡田 紀雄

  Necエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発部

• 砂村 潤

  Nec基礎・環境研究所:科学技術振興機構

• 砂村 潤

  日本電気株式会社

• 白井 浩樹

  NECエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発事業部

• 佐甲 隆

  NECエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発事業部

• 吉野 雄信

  広島大 ナノデバイス・システム研セ

• 田辺 昭

  Necエレクトロニクス

• Kikkawa Takamaro

  Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And

• 金子 貴昭

  立命館大学文学研究科 アート・リサーチセンター

• 金子 貴昭

  日本学術振興会

• Kikkawa Takamaro

  Millenium Research For Advanced Information Technology (mirai)-asrc Aist

• 本多 広一

  ルネサスエレクトロニクス実装・テスト技術統括部

• 武田 晃一

  ルネサスエレクトロニクス

• 高橋 寿史

  ルネサスエレクトロニクス

• 井口 学

  ルネサスエレクトロニクスデバイス・解析技術統括部

• 高橋 宗司

  Nec

• 植木 誠

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 山本 博規

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 堀越 賢剛

  ルネサスエレクトロニクスプラットフォームインテグレーション統括部

• 金子 貴昭

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 齋藤 忍

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 砂村 潤

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 肱岡 健一郎

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 白井 浩樹

  ルネサスエレクトロニクス生産本部

• 風間 賢也

  ルネサスエレクトロニクス生産本部

• 桑原 愼一

  ルネサスエレクトロニクス生産本部

• 渡會 雅敏

  ルネサスエレクトロニクス生産本部

• 佐甲 隆

  ルネサスエレクトロニクス生産本部

• 小倉 卓

  ルネサスエレクトロニクス生産本部

• 坂本 美里

  ルネサスエレクトロニクス生産本部

• 高橋 寿史

  ルネサスエレクトロニクス生産本部

• 齋藤 忍

  ルネサスエレクトロニクス 先行研究統括部

• 砂村 潤

  ルネサスエレクトロニクス 先行研究統括部

• 金子 貴昭

  ルネサスエレクトロニクス 先行研究統括部

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著作論文

• グリーンIT対応のフル多孔質low-k配線技術 : 無欠陥化に向けた材料・プロセス・配線構造の統合設計(配線・実装技術と関連材料技術)
• 密度変調Low-k膜を用いた32nm世代対応Cu配線技術(配線・実装技術と関連材料技術)
• A New Plasma-Enhanced Co-Polymerization (PCP) Technology for Reinforcing Mechanical Properties of Organic Silica Low-k/Cu Interconnects on 300 mm Wafers(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
• Low-kキャップ(k=3.1)を用いた低コスト・高性能Cu配線(k_=2.75)技術(配線・実装技術と関連材料技術)
• Low-k/Cu デュアルダマシンコンタクトによる40nm MOSFET高周波性能向上
• プラズマ重合法によるLow-k有機高分子膜成長技術とその応用( : 低誘電率層間膜及び配線技術)
• 低誘電率有機膜を用いたCuダマシン多層配線プロセス設計とその実証
• プラズマ重合BCB膜成長技術と銅ダマシン配線への適用
• 低誘電率有機膜に銅を埋め込んだ高性能配線プロセスの開発
• ロバストLow-k(k〜2.5)配線の開発指針とインテグレーションによる性能検証(配線・実装技術と関連材料技術)
• Low-k/Cu配線層にシリンダキャパシタを内包したロジックIP準拠・混載DRAMデバイス(配線・実装技術と関連材料技術)
• InGaZnOのチャネルの酸素制御とGate/Drain Offset構造によるBEOLトランジスタの高信頼化(配線・実装技術と関連材料技術)

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