吉野 雄信 | 広島大 ナノデバイス・システム研セ
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
吉野 雄信
半導体mirai-asrc-aist
-
吉野 雄信
広島大 ナノデバイス・システム研セ
-
吉川 公麿
広島大学:産業総合研究所
-
Kikkawa Takamaro
Millenium Research For Advanced Information Technology (mirai)-asrc Aist
-
横山 新
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
-
清野 豊
産業総合研究所
-
清野 豊
半導体MIRAI-産総研ASRC
-
吉川 公麿
半導体MIRAI-産総研ASRC
-
横山 新
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
藤井 敏昭
(株)荏原総合研究所
-
吉野 雄信
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
藤井 敏昭
(株)荏原製作所
-
Kikkawa Takamaro
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And
-
吉野 雄信
広島大学ナノデバイス ・ システム研究センター
-
石川 彰
産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター半導体miraiプロジェクト
-
田中 博文
三井化学
-
中野 昭典
半導体mirai-aset
-
高村 一夫
三井化学
-
秦 信宏
産業総合研究所
-
木下 啓蔵
半導体MIRAI-ASET
-
石川 彰
半導体MIRAI-ASET
-
尾形 哲郎
半導体MIRAI-ASET
-
園田 譲
半導体MIRAI-ASET
-
後藤 隆
半導体MIRAI-ASET
-
高田 省三
半導体MIRAI-産総研ASRC
-
市川 理恵
半導体MIRAI-産総研ASRC
-
三好 秀典
半導体MIRAI-ASET
-
松尾 尚典
半導体MIRAI-ASET
-
高村 一夫
半導体MIRAI-ASET
-
藤井 宣年
半導体MIRAI-ASET
-
秦 信宏
半導体MIRAI-ASRC-AIST
-
田中 博文
半導体MIRAI-ASET
-
芝原 健太郎
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
市川 理恵
半導体mirai-asrc-aist
-
吉川 公麿
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
木下 啓蔵
NEC
-
高田 省三
半導体mirai-asrc-aist
-
松尾 尚典
技術研究組合 超先端電子技術開発機構半導体MIRAIプロジェクト
-
角南 英夫
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
KHOSRU Quazi
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
Khosru Q
Hiroshima Univ. Higashi‐hiroshima Jpn
-
中島 安理
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
芝原 健太郎
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所:広島大学大学院先端物質科学研究科
-
木下 啓蔵
半導体先端テクノロジーズ
-
林 喜宏
NECシステムデバイス研究所
-
林 喜宏
NECシリコンシステム研究所
-
中山 高博
アルバック
-
川原 潤
半導体MIRAI-ASET
-
国見 信孝
半導体MIRAI-ASET
-
林 喜宏
半導体MIRAI-ASET
-
高橋 秀樹
半導体MIRAI-ASET
-
足立 三郎
半導体MIRAI-ASET
-
奥 良彰
半導体MIRAI-ASET
-
山田 和弘
半導体MIRAI-ASET
-
根来 千絵
半導体MIRAI-ASRC-AIST
-
大池 俊輔
半導体MIRAI-ASET
-
林 喜宏
マイクロエレクトロニクス研究所
-
林 喜宏
日本電気株式会社
-
中山 高博
半導体MIRAI-ASET
-
中嶋 安理
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
林 喜宏
Necエレクトロニクス Lsi基礎開研
-
川原 潤
Necエレクトロニクス
-
藤井 敏昭
(株) 荏原製作所
-
鈴木 作
(株) 荏原製作所
-
林 喜宏
Necエレクトロニクス株式会社 Lsi基礎開発研究所
-
川原 潤
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
-
林 喜宏
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
著作論文
- A New Plasma-Enhanced Co-Polymerization (PCP) Technology for Reinforcing Mechanical Properties of Organic Silica Low-k/Cu Interconnects on 300 mm Wafers(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
- 自己集合体化技術を用いた超低誘電率多孔質シリカ膜(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
- ポーラスシリカの低誘電率絶縁膜への応用
- ウェハ保管環境の MOS デバイス特性への影響
- シリコン熱酸化膜のホットエレクトロン耐性に及ぼす有機ガス汚染の影響
- 半導体搬送ボックスのUV/光電子法によるクリーン化とMOSデバイスへの影響
- UV/光電子クリーニング法の半導体搬送ボックスへの応用 (特集 酸化チタン光触媒の実用技術最前線) -- (応用開発事例)