Kikkawa Takamaro | Millenium Research For Advanced Information Technology (mirai)-asrc Aist
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概要
関連著者
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吉川 公麿
広島大学:産業総合研究所
-
Kikkawa Takamaro
Millenium Research For Advanced Information Technology (mirai)-asrc Aist
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Kikkawa Takamaro
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And
-
吉川 公麿
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
Hata Nobuhiro
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Science And Technology
-
Hata Nobuhiro
Advanced Semiconductor Research Center National Institute Of Advanced Industrial Science And Technol
-
Hata Nobuhiro
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And
-
KIKKAWA Takamaro
MIRAI, Advanced Semiconductor Research Center, AIST
-
Kikkawa Takamaro
Mirai Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Scienc
-
Hata Nobuhiro
Asrc Aist
-
FUJII Nobutoshi
MIRAI-ASET
-
KIKKAWA Takamaro
Research Center for Nanodevices and Systems, Hiroshima University
-
吉野 雄信
半導体mirai-asrc-aist
-
HATA Nobuhiro
MIRAI-Advanced Semiconductor Research Center (ASRC), National Institute of Advanced Industrial Scien
-
吉野 雄信
広島大 ナノデバイス・システム研セ
-
Kikkawa Takamaro
Research Center For Nanodevices And Systems Hiroshima University
-
Hata Nobuhiro
Mirai Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Scienc
-
清野 豊
産業総合研究所
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SHISHIDA Yoshinori
MIRAI-Association of Super-Advanced Electronics Technology (ASET)
-
HATA Nobuhiro
ASRC, AIST
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NAKAYAMA Takahiro
MIRAI-ASET
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Shishida Yoshinori
Mirai-association Of Super-advanced Electronics Technologies
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Takada Syozo
Advanced Semiconductor Research Center National Institute Of Advanced Industrial Science And Technol
-
Takada Syozo
Asrc Aist
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Takada Syozo
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Science And Technology
-
Shishida Yoshinori
MIRAI—Association of Super-Advanced Electronics Technology (ASET), Tsukuba, Ibaraki 305-8569, Japan
-
石川 彰
産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター半導体miraiプロジェクト
-
田中 博文
三井化学
-
高村 一夫
三井化学
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秦 信宏
産業総合研究所
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清野 豊
半導体MIRAI-産総研ASRC
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吉川 公麿
半導体MIRAI-産総研ASRC
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木下 啓蔵
NEC
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松尾 尚典
技術研究組合 超先端電子技術開発機構半導体MIRAIプロジェクト
-
角南 英夫
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
山田 紘士
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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Yoshino Takenobu
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And
-
木下 啓蔵
半導体先端テクノロジーズ
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TAKADA Syozo
ASRC, AIST
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中野 昭典
半導体mirai-aset
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中山 高博
アルバック
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吉川 公麿
広島大学
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佐々木 守
広島大学大学院先端物質科学研究科
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木下 啓蔵
半導体MIRAI-ASET
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石川 彰
半導体MIRAI-ASET
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尾形 哲郎
半導体MIRAI-ASET
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園田 譲
半導体MIRAI-ASET
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後藤 隆
半導体MIRAI-ASET
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高田 省三
半導体MIRAI-産総研ASRC
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市川 理恵
半導体MIRAI-産総研ASRC
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三好 秀典
半導体MIRAI-ASET
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松尾 尚典
半導体MIRAI-ASET
-
高村 一夫
半導体MIRAI-ASET
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藤井 宣年
半導体MIRAI-ASET
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秦 信宏
半導体MIRAI-ASRC-AIST
-
田中 博文
半導体MIRAI-ASET
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横山 新
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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芝原 健太郎
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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市川 理恵
半導体mirai-asrc-aist
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尾田 智彦
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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青木 倫子
クラリアントジャパン(株)
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舟山 徹
クラリアントジャパン(株)
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高田 省三
半導体mirai-asrc-aist
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大和 昌樹
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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吉野 雄信
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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KHOSRU Quazi
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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Khosru Q
Hiroshima Univ. Higashi‐hiroshima Jpn
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中島 安理
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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吉川 公麿
NEC ULSIデバイス開発研究所
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Kawahara J
Assoc. Super-advanced Electronics Technol. (aset) Ibaraki Jpn
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Kawahara Jun
Mirai-association Of Super-advanced Electronics Technology (aset)
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YOSHINO Takenobu
MIRAI-Advanced Semiconductor Research Center (ASRC), National Institute of Advanced Industrial Scien
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CHIKAKI Shinichi
MIRAI-ASET
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芝原 健太郎
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所:広島大学大学院先端物質科学研究科
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Hata Nobuhiro
Advanced Semiconductor Research Center National Institute Of Advanced Industrial Science And Technol
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Mukaigawa Seiji
Research Center For Nanodevices And Systems Hiroshima University
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Yamada K
Mirai Association Of Super-advanced Electronics Technologies (aset)
-
YAMADA Kazuhiro
MIRAI, Association of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET)
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Yamada Kazuhiro
Mirai Association Of Super-advanced Electronics Technologies (aset)
-
Chikaki Shinichi
Mirai-association Of Super Advanced Electronics Technologies (aset)
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横山 新
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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Aoki T
Jamstec
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AOKI Tomoko
Tonen Corporation
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SHIMIZU Yasuo
Tonen Corporation
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Shimizu Y
Keio Univ. Yokohama Jpn
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吉野 雄信
広島大学ナノデバイス ・ システム研究センター
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Aoki Toshio
Tonen Corporation
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KIKKAWA Takamaro
Millennium Research for Advanced Information Technology (MIRAI)-ASRC, AIST
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LI Xianying
ASRC, AIST
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Li Xianying
Asrc Aist
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Takimura Toshinori
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Science And Technology
-
Chikaki Shinichi
MIRAI, Association of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET), Tsukuba, Ibaraki 305-8569, Japan
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Yoshino Takenobu
MIRAI—Advanced Semiconductor Research Center (ASRC), National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki 305-8569, Japan
-
亀田 成司
広島大学大学院先端物質科学研究科
-
岩田 穆
広島大学大学院先端物質科学研究科
-
隣 真一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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曽田 栄一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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斎藤 修一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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林 喜宏
NECシステムデバイス研究所
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林 喜宏
NECシリコンシステム研究所
-
大音 光市
Necエレクトロニクス株式会社先端プロセス技術事業部
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向川 政治
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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隣 真一
半導体先端テクノロジーズ
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木下 啓藏
半導体先端テクノロジーズ
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平川 正明
アルバック
-
曽田 栄一
半導体先端テクノロジーズ
-
斎藤 修一
半導体先端テクノロジーズ
-
岩田 穆
広島大学先端物質科学研究科
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川原 潤
半導体MIRAI-ASET
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国見 信孝
半導体MIRAI-ASET
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林 喜宏
半導体MIRAI-ASET
-
高橋 秀樹
半導体MIRAI-ASET
-
足立 三郎
半導体MIRAI-ASET
-
奥 良彰
半導体MIRAI-ASET
-
山田 和弘
半導体MIRAI-ASET
-
根来 千絵
半導体MIRAI-ASRC-AIST
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大池 俊輔
半導体MIRAI-ASET
-
宮崎 誠一
広島大学工学部
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藤井 敏昭
(株)荏原総合研究所
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RASHID A.
Research Center for Nanodevices and Systems, Hiroshima University
-
SEINO Yutaka
MIRAI, Advanced Semiconductor Research Center, AIST
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TANAKA Hirofumi
MIRAI, Association of Super-Advanced Electronics Technologies
-
安彦 仁
NEC ULSIデバイス開発研究所
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井上 顕
Necエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発事業部
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林 喜宏
マイクロエレクトロニクス研究所
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林 喜宏
日本電気株式会社
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吉川 公麿
広島大学 ナノデバイス・システム研究センター
-
中山 高博
半導体MIRAI-ASET
-
佐々木 守
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
亀田 成司
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
安藤 博士
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
木本 健太郎
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
有薗 大介
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
KIMOTO Kentaro
Research Center for Nanodevices and Systems, Hiroshima University
-
渡邊 慎治
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
H.Rashid A.B.M.
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
中嶋 安理
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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加地 功駿
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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Kimoto Kentaro
Research Center For Nanodevices And Systems Hiroshima University
-
上野 和良
Nec・ulsiデバイス開発研究所
-
隣 真一
Nec Ulsiデバイス開研
-
大音 光市
NEC ULSIデバイス開発研究所
-
占部 耕児
NEC ULSIデバイス開発研究所
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田桑 哲也
NEC ULSIデバイス開発研究所
-
林 喜宏
Necエレクトロニクス Lsi基礎開研
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藤井 敏昭
(株)荏原製作所
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川原 潤
Necエレクトロニクス
-
木寺 俊郎
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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TAKIMURA Toshinori
ASRC, AIST
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YAGI Ryotaro
MIRAI-ASET
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MIYOSHI Hidenori
MIRAI, Association of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET)
-
安藤 博士
広島大学大学院先端物質科学研究科
-
Mikami Noboru
Mirai Association Of Super-advanced Electronics Technologies (aset)
-
MATSUO Hisanori
MIRAI, Association of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET)
-
OKU Yoshiaki
MIRAI, Association of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET)
-
TAKADA Syozo
Advanced Semiconductor Research Center (ASRC), National Institute of Advanced Industrial Science and
-
XIAO Xia
MIRAI, Advanced Semiconductor Research Center (ASRC), National Institute of Advanced Industrial Scie
-
井上 顕
日本電気(株)
-
井上 顕
NEC ULSIデバイス開発研究所
-
三ヶ木 郁
NEC ULSIデバイス開発研究所
-
Oku Yoshiaki
Mirai Association Of Super-advanced Electronics Technologies (aset)
-
Matsuo Hisanori
Mirai Association Of Super-advanced Electronics Technologies (aset)
-
Xiao Xia
Mirai Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Scienc
-
隣 真一
Nec Ulsiデバイス開発研究所
-
Miyoshi Hidenori
Mirai Association Of Super-advanced Electronics Technologies (aset)
-
Takimura Toshinori
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Science And Technology
-
Matsuo H
Mirai Association Of Super-advanced Electronics Technologies (aset)
-
MACHIDA Hideaki
Tri Chemical Laboratory Inc.
-
ドネリー ビンセントM.
ルーセントテクノロジーズ・ベル研究所
-
土屋 泰章
NEC・ULSIデバイス開発研究所
-
吉川 公麿
NEC・ULSIデバイス開発研究所
-
Seino Yutaka
Advanced Semiconductor Research Center National Institute Of Advanced Industrial Science And Technol
-
西山 文隆
広島大学放射線総合実験室
-
藤原 直憲
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
Sakamoto Susumu
Research And Development Division Sony Magnetic Products Inc.
-
Machida Hideaki
Tri Chemical Laboratories Inc.
-
Seino Yutaka
Mirai Advanced Semiconductor Research Center Aist
-
MURAMOTO Ikuyo
Tri Chemical Laboratories Inc.
-
YAMAJI Masahiro
Advanced Semiconductor Research Center (ASRC), National Institute of Advanced Industrial Science and
-
HYODO Yasuyoshi
MIRAI-Association of Super-Advanced Electronics Technologies
-
HISHIYA Shingo
MIRAI, ASET
-
KUNISHIGE Naoko
Advanced Semiconductor Research Center (ASRC), National Institute of Advanced Science and Technology
-
GUAN Guoqing
ASRC, AIST
-
林 喜宏
Necエレクトロニクス株式会社 Lsi基礎開発研究所
-
Kuroki Shin-Ichiro
Research Center for Nanodevices and Systems, Hiroshima University, 1-4-2 Kagamiyama, Higashi-Hiroshi
-
Sakamoto Susumu
Research Center For Nanodevices And Systems Hiroshima University
-
川原 潤
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
-
林 喜宏
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
-
Rashid A.
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
Guan Guoqing
Asrc Aist
-
土屋 泰章
Necエレクトロニクス
-
Yamaji Masahiro
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And
-
Kunishige Naoko
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Science And Technology
-
Hishiya Shingo
Mirai Aset
-
Kuroki Shin-ichiro
Research Center For Nanodevices And Systems Hiroshima University
-
Tanaka Hirofumi
Mirai Association Of Super-advanced Electronics Technologies
-
Tanaka Hirofumi
Mirai Association Of Super-advanced Electronics Technologies (aset)
-
Rashid A.
Research Center For Nanodevices And Systems Hiroshima University
-
井上 顕
Necエレクトロニクス
-
Machida Hideaki
TRI Chemical Lab. Inc., 8154-217 Uenohara, Uenohara-machi, Kitatsuru-gun, Yamanashi 409-0112, Japan
著作論文
- 高空孔率(50%)高強度(9GPa)自己組織化ポーラスシリカ膜を用いた32nmノードLSI向け超低誘電率膜(k=2.1)Cuダマシン多層配線(配線・実装技術と関連材料技術)
- Effect of High-Resistivity Si Substrate on Antenna Transmission Gain for On-Chip Wireless Interconnects
- A New Plasma-Enhanced Co-Polymerization (PCP) Technology for Reinforcing Mechanical Properties of Organic Silica Low-k/Cu Interconnects on 300 mm Wafers(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
- 自己集合体化技術を用いた超低誘電率多孔質シリカ膜(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
- 低誘電率層間絶縁膜中のリン添加効果によるCuイオンドリフト抑制効果
- Ultra low-k 膜対応のCMP技術
- CT-1-7 無線インタコネクトと3次元集積(CT-1.Si集積回路配線の解析と設計,エレクトロニクス2)
- Low-k/Cu技術の現状と将来動向(High Speed and Optoelectronic Technology II, 先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ(AWAD2005))
- ポーラスシリカの低誘電率絶縁膜への応用
- ハイパーブレイン実現を目指した無線インタコネクションを用いた三次元集積技術(VLSI一般(ISSCC2005特集))
- Transmission Characteristics of Gaussian Monocycle Pulses for Inter-Chip Wireless Interconnections Using Integrated Antennas
- VLSIチップ内・チップ間無線インタコネクト(回路技術(一般,超高速・低電力・高機能を目指した新アーキテクチャ))
- 配線技術
- BST電気特性の下部電極依存性(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- ワイヤレス配線におけるSiおよび低誘電率基板の影響
- ウェハ保管環境の MOS デバイス特性への影響
- (Ba,Sr)TiO_3膜物性の下地Si基板方位依存性
- (Ba,Sr)TiO_3膜キャパシタ特性の電極金属依存性
- ギガビットスケールDRAM用TiN/Ti-CVDコンタクト技術
- シリコン熱酸化膜のホットエレクトロン耐性に及ぼす有機ガス汚染の影響
- Plasma-enhanced polymerization thin films as a drift barrier for Cu interconnects
- Mechanical Strength of Multilayered Dielectric Structures Measured by Laser-Pulse Generated Surface-Acoustic-Wave Technique
- Mechanical Property Determination of Thin Porous Low-k Films by Twin-Transducer Laser Generated Surface Acoustic Waves
- Theoretical Analysis of Elastic Modulus and Dielectric Constant for Low-k Two-Dimensional Periodic Porous Silica Films
- 0.15μm CMOS用CoSi_2サリサイド技術
- Effect of Phosphorus Atom in Self-Assembled Monolayer as a Drift Barrier for Advanced Copper Interconnects
- XPSによるサブミクロンCuビアホールのクリーニング方法の解析
- Measurement of Copper Drift in Methylsilsesquiazane-Methylsilsesquioxane Dielectric Films
- Measurement of Copper Drift in Methylsilsesquioxane Dielectric Films
- (Ba,Sr)TiO_3高誘電率膜特性の電極金属依存症
- Nondestructive characterization of dielectric stack structures by laser-pulse-generated surface acoustic wave analysis
- The structural origin of determining the coefficient of thermal expansion for porous silica low-k films
- Nondestructive characterization of temperature-dependent backbone Si-O-Si structure in porous silica films by in-situ Fourier-transform infrared spectroscopy
- Infrared Complex Dielectric Function Analysis for Chemical Bonding Structure of Porous Silica Low Dielectric Constant Films
- Adsorption in-situ Spectroscopic Ellipsometry Analysis of Disordered Porous Silica Low-k Films
- Comparison of Pore Shape Models for Small Angle X-ray Scattering of a Disordered Porous Silica Low-k Film
- Electrical Characteristics of Porous Zeolite Interlayer Dielectrics
- Microstructure Characterization of Skeletal Silica in Porous Low-k Films by Infrared Spectroscopic Ellipsometry
- Low-k/Cu技術の現状と将来動向(High Speed and Optoelectronic Technology II, 先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ(AWAD2005))
- 低誘電率層間絶縁膜中へのCuイオンドリフトによる絶縁破壊
- A Novel Photosensitive Porous Low-$k$ Interlayer Dielectric Film
- ULSI多層配線技術の課題
- 多層配線技術とスケーリング
- ULSIの微細化と多層配線技術への課題