吉川 公麿 | 広島大学

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概要

• 同名の論文著者
• 広島大学の論文著者

関連著者

• 吉川 公麿

  広島大学

• 岩田 穆

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 深石 宗生

  NECシリコンシステム研究所

• 和田 修

  神戸大学大学院工学研究科電気電子工学専攻

• 和田 修

  神戸大

• 吉川 公麿

  広島大学ナノデバイス・システム研究センター

• 吉川 公麿

  広島大

• 益 一哉

  東工大

• 深石 宗生

  Nec

• 岩田 穆

  広島大 大学院先端物質科学研究科

• 吉川 公麿

  広島大学:産業総合研究所

• Kikkawa Takamaro

  Millenium Research For Advanced Information Technology (mirai)-asrc Aist

• 隣 真一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 曽田 栄一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 斎藤 修一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 田中 博文

  三井化学

• 隣 真一

  半導体先端テクノロジーズ

• 木下 啓藏

  半導体先端テクノロジーズ

• 中山 高博

  アルバック

• 高村 一夫

  三井化学

• 平川 正明

  アルバック

• 曽田 栄一

  半導体先端テクノロジーズ

• 清野 豊

  産業総合研究所

• 秦 信宏

  産業総合研究所

• 斎藤 修一

  半導体先端テクノロジーズ

• 尾田 智彦

  広島大学ナノデバイス・システム研究センター

• 青木 倫子

  クラリアントジャパン(株)

• 舟山 徹

  クラリアントジャパン(株)

• 木下 啓蔵

  NEC

• Kikkawa Takamaro

  Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And

• 木下 啓蔵

  半導体先端テクノロジーズ

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著作論文

• 高空孔率(50%)高強度(9GPa)自己組織化ポーラスシリカ膜を用いた32nmノードLSI向け超低誘電率膜(k=2.1)Cuダマシン多層配線(配線・実装技術と関連材料技術)
• 集積技術の将来を握るチップ間/チップ内通信技術(デザインガイア2004-VLSI設計の新しい大地を考える研究会-)
• 集積技術の将来を握るチップ間/チップ内通信技術(コデザイン)(VLSIの設計/検証/テスト及び一般)(デザインガイア2004-VLSI設計の新しい大地を考える研究会)
• 集積技術の将来を握るチップ間/チップ内通信技術
• 集積技術の将来を握るチップ間/チップ内通信技術
• 低誘電率層間絶縁膜中へのCuイオンドリフトによる絶縁破壊

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