Kikkawa Takamaro | Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And
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概要
- 同名の論文著者
- Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And の論文著者
関連著者
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吉川 公麿
広島大学:産業総合研究所
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Kikkawa Takamaro
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And
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Kikkawa Takamaro
Millenium Research For Advanced Information Technology (mirai)-asrc Aist
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Hata Nobuhiro
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And
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Hata Nobuhiro
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Science And Technology
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Hata Nobuhiro
Advanced Semiconductor Research Center National Institute Of Advanced Industrial Science And Technol
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KIKKAWA Takamaro
MIRAI, Advanced Semiconductor Research Center, AIST
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Kikkawa Takamaro
Mirai Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Scienc
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FUJII Nobutoshi
MIRAI-ASET
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Hata Nobuhiro
Asrc Aist
著作論文
- 高空孔率(50%)高強度(9GPa)自己組織化ポーラスシリカ膜を用いた32nmノードLSI向け超低誘電率膜(k=2.1)Cuダマシン多層配線(配線・実装技術と関連材料技術)
- A New Plasma-Enhanced Co-Polymerization (PCP) Technology for Reinforcing Mechanical Properties of Organic Silica Low-k/Cu Interconnects on 300 mm Wafers(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
- 自己集合体化技術を用いた超低誘電率多孔質シリカ膜(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
- Ultra low-k 膜対応のCMP技術
- CT-1-7 無線インタコネクトと3次元集積(CT-1.Si集積回路配線の解析と設計,エレクトロニクス2)
- Low-k/Cu技術の現状と将来動向(High Speed and Optoelectronic Technology II, 先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ(AWAD2005))
- ポーラスシリカの低誘電率絶縁膜への応用
- ハイパーブレイン実現を目指した無線インタコネクションを用いた三次元集積技術(VLSI一般(ISSCC2005特集))
- Transmission Characteristics of Gaussian Monocycle Pulses for Inter-Chip Wireless Interconnections Using Integrated Antennas
- VLSIチップ内・チップ間無線インタコネクト(回路技術(一般,超高速・低電力・高機能を目指した新アーキテクチャ))