平川 正明 | アルバック
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概要
関連著者
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平川 正明
アルバック
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平田 好則
大阪大学大学院工学研究科マテリアル生産科学専攻
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隣 真一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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曽田 栄一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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斎藤 修一
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三浦 治
株式会社アルバック 筑波超材料研究所
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尾崎 公洋
産業技術総合研究所
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田中 博文
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大阪大学大学院工学研究科
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隣 真一
半導体先端テクノロジーズ
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木下 啓藏
半導体先端テクノロジーズ
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中山 高博
アルバック
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高村 一夫
三井化学
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曽田 栄一
半導体先端テクノロジーズ
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清野 豊
産業総合研究所
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秦 信宏
産業総合研究所
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吉川 公麿
広島大学
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NEC
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株式会社 アルバック 筑波超材料研究所
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平川 正明
株式会社アルバック 筑波超材料研究所
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産総研(中部センター)
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竹中 徹宏
大阪大学大学院
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寺本 政由志
大阪大学大学院
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深谷 勝哉
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村上 裕彦
アルバック 筑波超材料研
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村上 裕彦
アルバック
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Kikkawa Takamaro
Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And
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木下 啓蔵
半導体先端テクノロジーズ
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Kikkawa Takamaro
Millenium Research For Advanced Information Technology (mirai)-asrc Aist
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平田 好則
大阪大学大学院 工学研究科 マテリアル生産科学専攻
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寺本 政由志
大阪大学
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平田 好則
大阪大学大学院
著作論文
- 高空孔率(50%)高強度(9GPa)自己組織化ポーラスシリカ膜を用いた32nmノードLSI向け超低誘電率膜(k=2.1)Cuダマシン多層配線(配線・実装技術と関連材料技術)
- 207 カーボンナノチューブ膜をエミッタとしたマイクロ熱加工法の研究(1)