木下 啓蔵 | 半導体先端テクノロジーズ

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概要

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関連著者

• 木下 啓蔵

  NEC

• 木下 啓蔵

  半導体先端テクノロジーズ

• 林 喜宏

  NECシステムデバイス研究所

• 林 喜宏

  NECシリコンシステム研究所

• 林 喜宏

  半導体MIRAI-ASET

• 林 喜宏

  マイクロエレクトロニクス研究所

• 川原 潤

  Necエレクトロニクス

• 川原 潤

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 小野寺 貴弘

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 斉藤 忍

  NECシステムデバイス研究所

• 斎藤 忍

  Necエレクトロニクスlsi基礎開発研究所

• 清野 豊

  産業総合研究所

• 木下 啓蔵

  半導体MIRAI-ASET

• 尾形 哲郎

  半導体MIRAI-ASET

• 吉川 公麿

  広島大学:産業総合研究所

• 林 喜宏

  Necエレクトロニクス Lsi基礎開研

• Kikkawa Takamaro

  Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And

• Kikkawa Takamaro

  Millenium Research For Advanced Information Technology (mirai)-asrc Aist

• 廣井 政幸

  NECエレクトロニクス株式会社

• 吉野 雄信

  半導体mirai-asrc-aist

• 石川 彰

  産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター半導体miraiプロジェクト

• 田中 博文

  三井化学

• 中野 昭典

  半導体mirai-aset

• 高村 一夫

  三井化学

• 秦 信宏

  産業総合研究所

• 川原 潤

  半導体MIRAI-ASET

• 石川 彰

  半導体MIRAI-ASET

• 清野 豊

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 高橋 秀樹

  半導体MIRAI-ASET

• 園田 譲

  半導体MIRAI-ASET

• 後藤 隆

  半導体MIRAI-ASET

• 高田 省三

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 市川 理恵

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 三好 秀典

  半導体MIRAI-ASET

• 松尾 尚典

  半導体MIRAI-ASET

• 吉川 公麿

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 市川 理恵

  半導体mirai-asrc-aist

• 多田 宗弘

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 高田 省三

  半導体mirai-asrc-aist

• 林 喜宏

  日本電気株式会社

• 松尾 尚典

  技術研究組合 超先端電子技術開発機構半導体MIRAIプロジェクト

• 田上 政由

  Necエレクトロニクス株式会社lsi基礎開発研究所

• 吉野 雄信

  広島大 ナノデバイス・システム研セ

• 隣 真一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 曽田 栄一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 斎藤 修一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 多田 宗弘

  NECシステムデバイス研究所

• 小野寺 貴弘

  NECシステムデバイス研究所

• 川原 潤

  NECシステムデバイス研究所

• 大竹 浩人

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 田上 政由

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 多田 宗弘

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 原田 恵充

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 小野寺 貴弘

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 古武 直也

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 林 喜宏

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 原田 恵充

  NECシステムデバイス研究所

• 田上 政由

  NECシステムデバイス研究所

• 隣 真一

  半導体先端テクノロジーズ

• 木下 啓藏

  半導体先端テクノロジーズ

• 中山 高博

  アルバック

• 平川 正明

  アルバック

• 曽田 栄一

  半導体先端テクノロジーズ

• 吉川 公麿

  広島大学

• 斎藤 修一

  半導体先端テクノロジーズ

• 国見 信孝

  半導体MIRAI-ASET

• 足立 三郎

  半導体MIRAI-ASET

• 奥 良彰

  半導体MIRAI-ASET

• 山田 和弘

  半導体MIRAI-ASET

• 高村 一夫

  半導体MIRAI-ASET

• 藤井 宣年

  半導体MIRAI-ASET

• 秦 信宏

  半導体MIRAI-ASRC-AIST

• 根来 千絵

  半導体MIRAI-ASRC-AIST

• 大池 俊輔

  半導体MIRAI-ASET

• 田中 博文

  半導体MIRAI-ASET

• 大竹 浩人

  東北大

• 廣井 政幸

  日本電気株式会社シリコンシステム研究所

• 斎藤 忍

  日本電気株式会社シリコンシステム研究所

• 木下 啓蔵

  NECシステムデバイス基礎研究本部

• 宇佐美 達也

  NEC先端デバイス開発本部

• 廣井 政幸

  NECシステムデバイス基礎研究本部

• 利根川 丘

  NEC先端デバイス開発本部

• 柴 和利

  NEC先端デバイス開発本部

• 斎藤 忍

  NECシステムデバイス基礎研究本部

• 川原 潤

  NECシリコンシステム研究所

• 木下 啓蔵

  NECシリコンシステム研究所

• 斉藤 忍

  NECシリコンシステム研究所

• 小野寺 貴弘

  NECシリコンシステム研究所

• 高橋 宗司

  NECシリコンシステム研究所

• 古武 直也

  Necエレクトロニクス株式会社lsi基礎開発研究所

• 林 喜宏

  Necエレクトロニクス株式会社 Lsi基礎開発研究所

• 林 喜宏

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

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著作論文

• 高空孔率(50%)高強度(9GPa)自己組織化ポーラスシリカ膜を用いた32nmノードLSI向け超低誘電率膜(k=2.1)Cuダマシン多層配線(配線・実装技術と関連材料技術)
• A New Plasma-Enhanced Co-Polymerization (PCP) Technology for Reinforcing Mechanical Properties of Organic Silica Low-k/Cu Interconnects on 300 mm Wafers(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
• 自己集合体化技術を用いた超低誘電率多孔質シリカ膜(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
• Low-k材料とエッチング技術 (特集 半導体製造工程を変革する新プロセス技術) -- (最新トピックス1 新プロセス/新材料の導入)
• プラズマ重合法によるLow-k有機高分子膜成長技術とその応用( : 低誘電率層間膜及び配線技術)
• 低誘電率有機膜を用いたCuダマシン多層配線プロセス設計とその実証
• プラズマ重合BCB膜成長技術と銅ダマシン配線への適用

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