原田 恵充 | 日本電気株式会社システムデバイス研究所
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概要
関連著者
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NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所
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日本電気株式会社システムデバイス研究所
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半導体MIRAI-ASET
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Necエレクトロニクス
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廣井 政幸
日本電気株式会社シリコンシステム研究所
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半導体先端テクノロジーズ
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ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
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林 喜宏
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
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ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
著作論文
- 低コストと高性能を両立させた65nmノード対応多層配線技術(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- プラズマ重合法によるLow-k有機高分子膜成長技術とその応用( : 低誘電率層間膜及び配線技術)
- 表面改質エッチング技術を用いた高信頼性Cu/Low-k配線