ポーラスシリカの低誘電率絶縁膜への応用

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 2005-06-03

著者

• 吉野 雄信

  半導体mirai-asrc-aist

• 田中 博文

  三井化学

• 中山 高博

  アルバック

• 高村 一夫

  三井化学

• 清野 豊

  産業総合研究所

• 秦 信宏

  産業総合研究所

• 清野 豊

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 吉川 公麿

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 高村 一夫

  半導体MIRAI-ASET

• 藤井 宣年

  半導体MIRAI-ASET

• 秦 信宏

  半導体MIRAI-ASRC-AIST

• 田中 博文

  半導体MIRAI-ASET

• 吉川 公麿

  広島大学:産業総合研究所

• 中山 高博

  半導体MIRAI-ASET

• 吉野 雄信

  広島大 ナノデバイス・システム研セ

• Kikkawa Takamaro

  Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And

• Kikkawa Takamaro

  Millenium Research For Advanced Information Technology (mirai)-asrc Aist

関連論文

• 高空孔率(50%)高強度(9GPa)自己組織化ポーラスシリカ膜を用いた32nmノードLSI向け超低誘電率膜(k=2.1)Cuダマシン多層配線(配線・実装技術と関連材料技術)
• Effect of High-Resistivity Si Substrate on Antenna Transmission Gain for On-Chip Wireless Interconnects
• A New Plasma-Enhanced Co-Polymerization (PCP) Technology for Reinforcing Mechanical Properties of Organic Silica Low-k/Cu Interconnects on 300 mm Wafers(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
• 自己集合体化技術を用いた超低誘電率多孔質シリカ膜(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
• 低誘電率層間絶縁膜中のリン添加効果によるCuイオンドリフト抑制効果
• Ultra low-k 膜対応のCMP技術
• A 2.4GHz Differential Wavelet Generator in 0.18μm CMOS for 1.4Gbps UWB Impulse Radio in Wireless Inter/Intra-Chip Data Communication
• CT-1-7 無線インタコネクトと3次元集積(CT-1.Si集積回路配線の解析と設計,エレクトロニクス2)
• Low-k/Cu技術の現状と将来動向(High Speed and Optoelectronic Technology II, 先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ(AWAD2005))
• ポーラスシリカの低誘電率絶縁膜への応用
• ハイパーブレイン実現を目指した無線インタコネクションを用いた三次元集積技術(VLSI一般(ISSCC2005特集))
• Transmission Characteristics of Gaussian Monocycle Pulses for Inter-Chip Wireless Interconnections Using Integrated Antennas
• A CMOS Monocycle Pulse Generation Circuit in a Ultra-Wideband Transmitter for Intra/Inter Chip Wireless Interconnection
• VLSIチップ内・チップ間無線インタコネクト(回路技術(一般,超高速・低電力・高機能を目指した新アーキテクチャ))
• A CMOS Monocycle Pulse Generation Circuit of UWB Transmitter for Intra/Inter Chip Wireless Interconnection
• 配線技術
• BST電気特性の下部電極依存性(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• ワイヤレス配線におけるSiおよび低誘電率基板の影響
• ウェハ保管環境の MOS デバイス特性への影響
• (Ba,Sr)TiO_3膜物性の下地Si基板方位依存性
• (Ba,Sr)TiO_3膜キャパシタ特性の電極金属依存性
• Alダマシンプロセスによる多層配線形成
• ギガビットスケールDRAM用TiN/Ti-CVDコンタクト技術
• 高温スパッタを用いたサブクォーターマイクロンのチタンサリサイド形成技術
• シリコン熱酸化膜のホットエレクトロン耐性に及ぼす有機ガス汚染の影響
• Plasma-enhanced polymerization thin films as a drift barrier for Cu interconnects
• Mechanical Strength of Multilayered Dielectric Structures Measured by Laser-Pulse Generated Surface-Acoustic-Wave Technique
• 新型Low-kシリカ膜 : 高規則性を有した空孔構造
• Mechanical Property Determination of Thin Porous Low-k Films by Twin-Transducer Laser Generated Surface Acoustic Waves
• Theoretical Analysis of Elastic Modulus and Dielectric Constant for Low-k Two-Dimensional Periodic Porous Silica Films
• 0.15μm CMOS用CoSi_2サリサイド技術
• Effect of Phosphorus Atom in Self-Assembled Monolayer as a Drift Barrier for Advanced Copper Interconnects
• 半導体搬送ボックスのUV/光電子法によるクリーン化とMOSデバイスへの影響
• UV/光電子クリーニング法の半導体搬送ボックスへの応用 (特集 酸化チタン光触媒の実用技術最前線) -- (応用開発事例)
• XPSによるサブミクロンCuビアホールのクリーニング方法の解析
• Measurement of Copper Drift in Methylsilsesquiazane-Methylsilsesquioxane Dielectric Films
• Measurement of Copper Drift in Methylsilsesquioxane Dielectric Films
• (Ba,Sr)TiO_3高誘電率膜特性の電極金属依存症
• Theoretical Investigation into Effects of Pore Size and Pore Position Distributions on Dielectric Constant and Elastic Modulus of Two-Dimensional Periodic Porous Silica Films
• Nondestructive characterization of dielectric stack structures by laser-pulse-generated surface acoustic wave analysis
• The structural origin of determining the coefficient of thermal expansion for porous silica low-k films
• Nondestructive characterization of temperature-dependent backbone Si-O-Si structure in porous silica films by in-situ Fourier-transform infrared spectroscopy
• Infrared Complex Dielectric Function Analysis for Chemical Bonding Structure of Porous Silica Low Dielectric Constant Films
• Adsorption in-situ Spectroscopic Ellipsometry Analysis of Disordered Porous Silica Low-k Films
• Comparison of Pore Shape Models for Small Angle X-ray Scattering of a Disordered Porous Silica Low-k Film
• Electrical Characteristics of Porous Zeolite Interlayer Dielectrics
• Microstructure Characterization of Skeletal Silica in Porous Low-k Films by Infrared Spectroscopic Ellipsometry
• Low-k/Cu技術の現状と将来動向(High Speed and Optoelectronic Technology II, 先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ(AWAD2005))
• 低誘電率層間絶縁膜中へのCuイオンドリフトによる絶縁破壊
• A Novel Photosensitive Porous Low-$k$ Interlayer Dielectric Film
• ULSI多層配線技術の課題
• 多層配線技術とスケーリング
• ULSIの微細化と多層配線技術への課題

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク