隣 真一 | Nec Ulsiデバイス開研

スポンサーリンク

概要

• 同名の論文著者
• Nec Ulsiデバイス開研の論文著者

関連著者

• 隣 真一

  Nec Ulsiデバイス開研

• 吉川 公麿

  広島大学:産業総合研究所

• 隣 真一

  Nec Ulsiデバイス開発研究所

• 吉川 公麿

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 菊田 邦子

  NECエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発事業部

• 中島 務

  日本電気株式会社マイクロエレクトロニクス研究所 超高集積回路研究部

• 大音 光市

  Necエレクトロニクス株式会社先端プロセス技術事業部

• 伊藤 信和

  Nec Ulsiデバイス開発研究所

• 林 喜宏

  マイクロエレクトロニクス研究所

• 菊田 邦子

  日本電気(株)

• 中島 務

  日本電気(株)

• 林 喜宏

  日本電気(株)

• 隣 真一

  日本電気(株)

• 吉川 公麿

  日本電気(株)

• 隣 真一

  日本電気(株)ulsiデバイス開発研究所

• 大音 光市

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 占部 耕児

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 田桑 哲也

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 藤井 邦宏

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 菊田 邦子

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 林 喜宏

  日本電気(株)マイクロエレクトロ二クス研究所

• 藤井 邦宏

  Necエレクトロニクス株式会社プロセス技術部

• 菊田 邦子

  Nec Ulsi デバイス開発研究所

• Kikkawa Takamaro

  Millenium Research For Advanced Information Technology (mirai)-asrc Aist

もっと見る 閉じる

著作論文

• Alダマシンプロセスによる多層配線形成
• ギガビットスケールDRAM用TiN/Ti-CVDコンタクト技術
• ボーダーレス配線側面でのvia接続
• 高温スパッタを用いたサブクォーターマイクロンのチタンサリサイド形成技術

スポンサーリンク