隣 真一 | 日本電気(株)ulsiデバイス開発研究所

スポンサーリンク

概要

• 隣 真一の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 日本電気(株)ulsiデバイス開発研究所の論文著者

関連著者

• 隣 真一

  日本電気(株)

• 隣 真一

  日本電気(株)ulsiデバイス開発研究所

• 林 喜宏

  日本電気(株)

• 林 喜宏

  日本電気(株)マイクロエレクトロ二クス研究所

• 中島 務

  日本電気株式会社マイクロエレクトロニクス研究所 超高集積回路研究部

• 桜井 道雄

  日本電気(株)マイクロコンピュータ事業部

• 林 喜宏

  マイクロエレクトロニクス研究所

• 吉川 公麿

  広島大学:産業総合研究所

• 菊田 邦子

  日本電気(株)

• 中島 務

  日本電気(株)

• 吉川 公麿

  日本電気(株)

• 隣 真一

  Nec Ulsiデバイス開研

• 菊田 邦子

  NECエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発事業部

• Hayashi Yoshihiro

  Microelectronics Research Laboratories Nec Corporation

• Hayashi Yoshihiro

  Device Platforms Research Labs. Nec Corporation

• Hayashi Yoshihiro

  Ulsi Res. Lab Silicon Systems Res. Labs. Nec

もっと見る 閉じる

著作論文

• Alダマシンプロセスによる多層配線形成
• 科学的機械研磨による層間膜平坦化技術
• ULSIデバイス実現のための平坦化技術の必要性(機械的プラナリゼーション技術)
• CMPを用いた平坦化技術

スポンサーリンク