林 喜宏 | 日本電気(株)マイクロエレクトロ二クス研究所

スポンサーリンク

概要

• 同名の論文著者
• 日本電気(株)マイクロエレクトロ二クス研究所の論文著者

関連著者

• 林 喜宏

  日本電気(株)マイクロエレクトロ二クス研究所

• Hayashi Yoshihiro

  Microelectronics Research Laboratories Nec Corporation

• Hayashi Yoshihiro

  Device Platforms Research Labs. Nec Corporation

• Hayashi Yoshihiro

  Ulsi Res. Lab Silicon Systems Res. Labs. Nec

• 林 喜宏

  日本電気(株)

• 林 喜宏

  マイクロエレクトロニクス研究所

• 隣 真一

  日本電気(株)

• 隣 真一

  日本電気(株)ulsiデバイス開発研究所

• HAYASHI Yoshihiro

  ULSI Research Laboratory, Microelectronics Research Laboratories, NEC Corporation

• HAYASHI Yoshihiro

  Microelectronics Research Laboratories, NEC

• Hayashi Yoshihiro

  Microelectronics Research Laboratories Nec

• 中島 務

  日本電気株式会社マイクロエレクトロニクス研究所 超高集積回路研究部

• 山本 豊二

  MIRAI-ASET

• 山本 豊二

  NECシリコンシステム研究所

• 安彦 仁

  日本電気ULSIデバイス開発研究所

• 吉田 和由

  Nec Ulsiデバイス開発研究所

• 林 喜宏

  半導体MIRAI-ASET

• 田村 貴央

  日本電気(株) ULSIデバイス開研究所

• 吉田 和由

  日本電気(株) ULSIデバイス開発研究所

• 安彦 仁

  日本電気(株)

• 田村 貴央

  Necエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部

• 山本 豊二

  NEC、シリコンシステム研究所

• 吉川 公麿

  広島大学:産業総合研究所

• 菊田 邦子

  日本電気(株)

• 中島 務

  日本電気(株)

• 吉川 公麿

  日本電気(株)

• 山田 泰久

  NEC エレクトロンデバイス 先端デバイス開発本部

• 隣 真一

  Nec Ulsiデバイス開研

• 酒井 勲美

  NEC Corporation

• 山田 秦久

  Nec エレクトロンデバイス 先端デバイス開発本部

• 川口 宏

  日本電気(株)

• 斎藤 幸重

  日本電気(株)

• 山本 豊二

  日本電気(株)

• 徳永 賢一

  日本電気(株)

• 山田 泰久

  日本電気(株)

• 酒井 勲美

  日本電気(株)

• 菊田 邦子

  NECエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発事業部

• HAYASHI Yoshihiro

  Device Platforms Research Labs., NEC.

• TATSUMI Toru

  System Devices Research Laboratories, NEC Corporation

• Hayashi Yoshihiro

  Device Platforms Research Labs. Nec.

• KUNIO Takemitsu

  Microelectronics Research Laboratories, NEC Corporation

• Tatsumi Toru

  System Devices Research Laboratories Nec Corporation

• Hayashi Y

  Irie Koken Co. Ltd.

• Hayashi Kanji

  Microcomputer Division Nec Corporation

• Kunio T

  Silicon Systems Research Laboratories Nec Corporation

• Sakurai Michio

  Microcomputer Division Nec Corporation

• 徳永 賢一

  Nec Ulsiデバイス開発研究所

• Amamiya Yasushi

  Device Platforms Research Labs. Nec Corporation

• NAKAJIMA Tsutomu

  Microelectronics Research Laboratories, NEC

• TANABE Akira

  Device Platforms Research Labs., NEC Corporation

• Nakajima Tsutomu

  Ulsi Research Laboratory Microelectronics Research Laboratories Nec Corporation

• Nakajima Tsutomu

  Microelectronics Research Laboratories Nec

• 林 喜宏

  Necエレクトロニクス株式会社 Lsi基礎開発研究所

• Kunio Takemitsu

  Microelectronics Research Laboratories Nec

• Sasaki Syuzo

  Microcomputer Division, NEC Corporation

• Chikaki Shin-ichi

  Microcomputer Division, NEC Corporation

• Takemitu Kunio

  ULSI Research Laboratory, Microelectronics Research Laboratories, NEC Corporation

• Sasaki Syuzo

  Microcomputer Division Nec Corporation

• Takemitu Kunio

  Ulsi Research Laboratory Microelectronics Research Laboratories Nec Corporation

• Chikaki Shin-ichi

  Microcomputer Division Nec Corporation

• Hijioka Ken'ichiro

  Device Platforms Research Labs. Nec Corporation

• Inoue Naoya

  Ulsi Res. Lab Silicon Systems Res. Labs. Nec

• Tatsumi Toru

  Microelectronics Laboratories Nec Corporation

• Tanabe Akira

  Device Platforms Research Labs. Nec Corporation

• Tashiro Tsutomu

  Ulsi Device Development Laboratories Nec Corporation

• HASHIMOTO Takasuke

  ULSI Device Development Laboratories, NEC Corporation

• SATO Fumihiko

  ULSI Device Development Laboratories, NEC Corporation

• Sato Fumihiko

  Ulsi Device Development Laboratories Nec Corporation

• Hayashi Yoshihiro

  Ulsi Res. Lab Silicon Systems Res. Labs. Nec Corporation

• Hashimoto Takasuke

  Ulsi Device Development Laboratories Nec Corporation

• Hayashi Yoshihiro

  Device Platforms Research Laboratories, NEC Corp., 1120 Shimokuzawa, Sagamihara, Kanagawa 229-1198, Japan

• Amamiya Yasushi

  Device Platforms Research Laboratories, NEC Corporation, 1120 Shimokuzawa, Sagamihara, Kanagawa 229-1198, Japan

• Tanabe Akira

  Device Platforms Research Laboratories, NEC Corporation, 1120 Shimokuzawa, Sagamihara, Kanagawa 229-1198, Japan

もっと見る 閉じる

著作論文

• Alダマシンプロセスによる多層配線形成
• 科学的機械研磨による層間膜平坦化技術
• 溝側壁注入により逆狭チャネル効果を抑制した0.2μmSTI技術
• A Small Area, 3-Dimensional On-chip Inductors for High-speed Signal Processing under Low Power Supply Voltages
• Ultra-Uniform CMP Using a Hydro Film Buffered Chuck (Hydro Chuck)
• Ammonium-Salt-Added Silica Slurry for the Chemical Mechanical Polishing of the Interlayer Dielectric Film Planarization in ULSI's
• Effect of Thermal Data-Imprint on 2T/2C FeRAM Cell Operation
• 7-Mask Self-Aligned SiGe Base Bipolar Transistors with f_T of 80 GHz
• Materials and Process Designs for FeRAM-embeded VLSI Devices

スポンサーリンク