科学的機械研磨による層間膜平坦化技術

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概要

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• 応用物理学会の論文
• 1997-01-10

著者

• 林 喜宏

  日本電気(株)

• 隣 真一

  日本電気(株)

• 隣 真一

  日本電気(株)ulsiデバイス開発研究所

• 林 喜宏

  日本電気(株)マイクロエレクトロ二クス研究所

• Hayashi Yoshihiro

  Microelectronics Research Laboratories Nec Corporation

• Hayashi Yoshihiro

  Device Platforms Research Labs. Nec Corporation

• Hayashi Yoshihiro

  Ulsi Res. Lab Silicon Systems Res. Labs. Nec

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