田村 貴央 | Necエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
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概要
関連著者
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田村 貴央
Necエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
-
吉田 和由
Nec Ulsiデバイス開発研究所
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田辺 昭
NECシリコンシステム研究所
-
古川 昭雄
日本電気(株)システムデバイス・基礎研究本部
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田村 貴央
日本電気(株) ULSIデバイス開研究所
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早田 征明
Necエレクトロニクス(株)
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東郷 光洋
NEC ULSIデバイス開発研究所
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吉田 和由
日本電気(株) ULSIデバイス開発研究所
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手塚 宏
日本電気(株)C&Cメディア研究所
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早田 征明
日本電気(株)光エレクトロニクス研究所
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田辺 昭
日本電気(株) マイクロエレクトロニクス研究所
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東郷 光洋
日本電気(株) マイクロエレクトロニクス研究所
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古川 昭雄
日本電気(株) マイクロエレクトロニクス研究所
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塩入 智美
日本電気(株) C&cメディア研究所
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山田 泰久
NEC エレクトロンデバイス 先端デバイス開発本部
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手塚 宏
Nec C&cメディア研究所
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山田 秦久
Nec エレクトロンデバイス 先端デバイス開発本部
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早田 征明
日本電気(株)c&c Lsi開発本部
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手塚 宏
日本電気(株)c&cメディア研究所
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山品 正勝
Necラボラトリーズシステムデバイス・基礎研究本部シリコンシステム研究所
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山品 正勝
Necシリコンシステム研究所 システムulsi研究部
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安彦 仁
日本電気ULSIデバイス開発研究所
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中原 寧
NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部
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田村 貴央
NEC ULSIデバイス開発研究所
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酒井 勲美
NEC Corporation
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中原 寧
Necエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
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中原 寧
Necエレクトロニクス
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柴山 充文
NECシステムIPコア研究所
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水野 正之
NEC Corporation
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山品 正勝
NEC Corporation
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山本 豊二
MIRAI-ASET
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山本 豊二
NECシリコンシステム研究所
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松本 明
日本電気ULSIデバイス開発研究所
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柴山 充文
NEC Corporation
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安彦 仁
NEC Corporation
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松本 明
NEC Corporation
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中澤 陽悦
NEC Corporation
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中澤 陽悦
日本電気(株)デバイスプラットフォーム研究所
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中沢 陽悦
Nec Corporation
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林 喜宏
半導体MIRAI-ASET
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中原 寧
先端デバイス開発本部
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田辺 昭
NECマイクロエレクトロニクス研究所
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古川 昭雄
NECマイクロエレクトロニクス研究所
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中島 謙
NEC ULSIデバイス開発研究所
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中島 謙
NECマイクロエレクトロニクス研究所
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井上 顕
Necエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発事業部
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小野田 中
NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
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山本 豊二
NEC、シリコンシステム研究所
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林 喜宏
マイクロエレクトロニクス研究所
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中原 寧
NEC Electronics Corporation
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小野 篤樹
NEC Corporation
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益岡 完明
NEC Corporation
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田村 貴央
NEC Corporation
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山田 泰久
NEC Corporation
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西沢 厚
NEC Corporation
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川本 英明
NEC Corporation
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井上 顕
NEC Corporation
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徳永 賢一
日本電気(株)
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山田 泰久
日本電気(株)
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井上 顕
日本電気(株)
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徳永 賢一
Nec Ulsiデバイス開発研究所
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林 喜宏
Necエレクトロニクス株式会社 Lsi基礎開発研究所
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井上 顕
Necエレクトロニクス
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栗栖 正和
NECシステムULSI開発本部
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林 喜宏
NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所
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多田 宗弘
NECシステムデバイス研究所
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林 喜宏
NECシステムデバイス研究所
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田村 貴央
NECELプロセス技術事業部
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藤井 清
NECELプロセス技術事業部
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林 喜宏
NEC シリコンシステム研究所
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池田 昌弘
Necエレクトロニクス先端デバイス開発事業部
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水野 正之
NECデバイスプラットフォーム研究所
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古田 浩一朗
NEC
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林 喜宏
NECシリコンシステム研究所
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宮本 秀信
NEC ULSIデバイス開発研究所
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古田 浩一朗
Necマイクロエレクトロニクス研究所
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山品 正勝
Necマイクロエレクトロニクス研究所 システムulsi研究部
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山本 豊二
NEC(株)システムデバイス研究所
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早田 征明
NEC C&CLSI開発本部
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坂本 圭司
Necエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
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水野 正之
NECマイクロエレクトロニクス研究所
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古川 昭雄
日本電気株式会社ネットワーキング研究所
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三宅 慎一
NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部
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今井 清隆
NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部
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東郷 光洋
NECエレクトロニクス株式会社
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多田 宗弘
NECデバイスプラットフォーム研究所
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中原 寧
日本電気株式会社シリコンシステム研究所
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田辺 昭
日本電気株式会社シリコンシステム研究所
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早田 征明
日本電気株式会社C&Cメディア研究所
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田村 貴央
日本電気株式会社ULSIデバイス開発研究所
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吉田 和由
日本電気株式会社ULSIデバイス開発研究所
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中原 寧
NECシリコンシステム研究所
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古川 昭雄
NECシリコンシステム研究所
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金子 信
NECシステムLSI推進開発本部
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洲崎 哲行
NEC光エレクトロニクス研究所
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東郷 光洋
NECマイクロエレクトロニクス研究所
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安藤 岳
NECマイクロエレクトロニクス研究所
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安彦 仁
日本電気(株)
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深井 利憲
NEC、シリコンシステム研究所
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東郷 光洋
NEC、シリコンシステム研究所
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小山 晋
NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
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保国 裕美
NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
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松田 友子
NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
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藤原 秀二
NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
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国宗 依信
NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
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永瀬 正俊
NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
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山夕 貴子
NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
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工藤 智彦
NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
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山縣 保司
NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
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林 喜宏
日本電気株式会社
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林 喜宏
日本電気(株)
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林 喜宏
日本電気(株)マイクロエレクトロ二クス研究所
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金子 信
Nec C&c Lsi開発本部
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池田 昌弘
Necエレクトロニクス
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山下 浩
日本電気(株) Ulsiデバイス開発研究所 微細加工技術開発部
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深井 利憲
Necエレクトロニクス
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野末 寛
NEC ULSIデバイス開発研究所
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藤井 清
NECエレクトロニクス
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依馬 貴弘
日本電気(株) Ulsiデバイス開発研究所 微細加工技術開発部
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野末 寛
Nec Ulsiデバイス開研
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川口 宏
日本電気(株)
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斎藤 幸重
日本電気(株)
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山本 豊二
日本電気(株)
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酒井 勲美
日本電気(株)
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中島 謙
日本電気(株) ULSIデバイス開発研究所 微細加工技術開発部
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小島 義克
日本電気(株) ULSIデバイス開発研究所 微細加工技術開発部
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平沢 聡美
日本電気(株) ULSIデバイス開発研究所 微細加工技術開発部
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近藤 研二
日本電気(株) ULSIデバイス開発研究所 微細加工技術開発部
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小野田 中
日本電気(株) ULSIデバイス開発研究所 微細加工技術開発部
-
野末 寛
日本電気(株) ULSIデバイス開発研究所 微細加工技術開発部
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洲崎 哲行
Nec C&cメディア研究所
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洲崎 哲行
Nec C&cメディア研
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早田 征明
日本電気株式会社
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宮本 秀信
Nec
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山縣 保司
Necエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発部
-
栗栖 正和
Nec C&c Lsi開発本部
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林 喜宏
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
著作論文
- 2.4Gb/s CMOSワンチップ光通信受信IC
- 2.4Gb/s CMOS1チップ光受信器
- 2.4Gb/s CMOSクロックリカバリ機能付き1:8DMUX
- 3Gb/s CMOS 8:1マルチプレクサ
- 高耐雑音、適応型ゲインVCOを用いた0.18μm CMOSホットスタンバイPLL
- Wide-range V_動作に適した65nm CMOS技術(IEDM特集:先端CMOSデバイス・プロセス技術)
- クロックスキュー耐性のあるパイプラインレジスタ
- リング状クロック線による低スキュークロック分配方式
- 2.4Gb/s CMOSクロックリカバリ機能付き1:8DMUX
- 2.4Gb/s CMOSクロックリカバリ機能付き1:8DMUX
- 2.4Gb/s CMOSクロックリカバリ機能付き1:8DMUX
- EB直描を用いた先端デバイスの試作
- 溝側壁注入により逆狭チャネル効果を抑制した0.2μmSTI技術
- 0.15μm部分一括EB直描技術