林 喜宏 | NEC シリコンシステム研究所

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概要

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関連著者

• 林 喜宏

  NEC シリコンシステム研究所

• 林 喜宏

  半導体MIRAI-ASET

• 林 喜宏

  マイクロエレクトロニクス研究所

• 林 喜宏

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 林 喜宏

  NECシステムデバイス研究所

• 林 喜宏

  Necエレクトロニクス株式会社 Lsi基礎開発研究所

• 小野寺 貴弘

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 林 喜宏

  NECシリコンシステム研究所

• 井上 尚也

  大阪府立大学工学部情報工学科

• 田上 政由

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 川原 潤

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 多田 宗弘

  NECシステムデバイス研究所

• 廣井 政幸

  NECエレクトロニクス株式会社

• 田村 貴央

  NECELプロセス技術事業部

• 藤井 清

  NECELプロセス技術事業部

• 井上 尚也

  NEC シリコンシステム研究所

• 多田 宗弘

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 田村 貴央

  Necエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部

• 林 喜宏

  日本電気株式会社

• 田上 政由

  NEC Electronics Corporation

• 林 喜宏

  Nec シリコンシステム研究所 超高集積回路研究部

• 林 喜宏

  Necエレクトロニクス Lsi基礎開研

• 川原 潤

  Necエレクトロニクス

• 高橋 宗司

  NECシリコンシステム研究所

• 田上 政由

  Necエレクトロニクス株式会社lsi基礎開発研究所

• 藤井 清

  NECエレクトロニクス

• 古谷 晃

  NEC

• 川原 潤

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 林 喜宏

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

• 高橋 宗司

  Nec

• 井上 尚也

  ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部

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著作論文

• 分極緩和を考慮したFeRAM非線形信頼性予測モデル
• 次世代LSIデバイス技術の将来展望とCMP技術への期待
• EB直描を用いた先端デバイスの試作
• 低誘電率有機膜に銅を埋め込んだ高性能配線プロセスの開発
• パワースイングスパッタ法を用いたMOCVD-Cu配線用TaN膜の評価

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