EB直描を用いた先端デバイスの試作
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概要
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- 2003-11-28
著者
-
林 喜宏
NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所
-
多田 宗弘
NECシステムデバイス研究所
-
林 喜宏
NECシステムデバイス研究所
-
田村 貴央
NECELプロセス技術事業部
-
藤井 清
NECELプロセス技術事業部
-
林 喜宏
NEC シリコンシステム研究所
-
林 喜宏
NECシリコンシステム研究所
-
林 喜宏
半導体MIRAI-ASET
-
多田 宗弘
NECデバイスプラットフォーム研究所
-
田村 貴央
Necエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
-
林 喜宏
マイクロエレクトロニクス研究所
-
林 喜宏
日本電気株式会社
-
藤井 清
NECエレクトロニクス
-
林 喜宏
Necエレクトロニクス株式会社 Lsi基礎開発研究所
-
林 喜宏
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
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