サブ0.1μm次世代LSIにおけるナノ界面制御技術による銅配線信頼性制御技術
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概要
著者
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植木 誠
NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所
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林 喜宏
NECシステムデバイス研究所
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植木 誠
東北大学:(現)新日本製鐵(株)
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林 喜宏
NECシリコンシステム研究所
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林 喜宏
半導体MIRAI-ASET
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林 喜宏
マイクロエレクトロニクス研究所
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林 喜宏
日本電気株式会社
-
五十嵐 信行
日本電気株式会社シリコンシステム研究所
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林 喜宏
Necエレクトロニクス株式会社 Lsi基礎開発研究所
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林 喜宏
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
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