0.1μm ULSI世代の超微細アルミニウム多層配線を実現するAl-CMP技術
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概要
著者
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林 喜宏
日本電気株式会社システムデバイス研究所
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中島 務
日本電気株式会社マイクロエレクトロニクス研究所 超高集積回路研究部
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林 喜宏
日本電気株式会社デバイスプラットフォーム研究所
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林 喜宏
日本電気株式会社
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林 喜宏
日本電気株式会社マイクロエレクトロニクス研究所 超高集積回路研究部
-
Hayashi Yoshihiro
System Devices Research Laboratories, NEC Corporation, 1120 Shimokuzawa, Sagamihara, Kanagawa 229-1198, Japan
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Hayashi Yoshihiro
System Devices Research Laboratories, NEC, 1120 Shimokuzawa, Sagamihara, Kanagawa 229-1198, Japan
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