低誘電率有機膜に銅を埋め込んだ高性能配線プロセスの開発
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概要
- 論文の詳細を見る
- 1997-06-05
著者
-
川原 潤
NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所
-
小野寺 貴弘
NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所
-
林 喜宏
NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所
-
林 喜宏
NEC シリコンシステム研究所
-
林 喜宏
NECシリコンシステム研究所
-
林 喜宏
半導体MIRAI-ASET
-
林 喜宏
マイクロエレクトロニクス研究所
-
川原 潤
Necエレクトロニクス
-
高橋 宗司
NECシリコンシステム研究所
-
川原 潤
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
-
高橋 宗司
Nec
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