耐水性分子細孔SiOCH膜中に形成された高信頼CoWBメタル被覆Cu配線
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概要
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- 2010-01-29
著者
-
田上 政由
NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所
-
井上 尚也
NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所
-
古武 直也
NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所
-
林 喜宏
NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所
-
林 喜宏
半導体MIRAI-ASET
-
有田 幸司
Necエレクトロニクス
-
中沢 絵美子
NECエレクトロニクス株式会社プロセス技術部
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