上野 和良 | Nec・ulsiデバイス開発研究所

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概要

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• Nec・ulsiデバイス開発研究所の論文著者

関連著者

• 上野 和良

  Nec・ulsiデバイス開発研究所

• 大音 光市

  NECエレクトロンデバイス先端デバイス開発本部

• 大音 光市

  Necエレクトロニクス株式会社先端プロセス技術事業部

• 吉川 公麿

  広島大学:産業総合研究所

• 恒成 欣嗣

  日本電気株式会社

• 吉川 公磨

  ULSIデバイス開発研究所

• 上野 和良

  Necエレクトロニクス(株)

• 大音 光市

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 菊田 邦子

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 菊田 邦子

  NECエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発事業部

• 恒成 欣嗣

  NEC

• 吉川 公磨

  NEC

• 菊田 邦子

  Nec Ulsi デバイス開発研究所

• ドネリー ビンセントM.

  ルーセントテクノロジーズ・ベル研究所

• 土屋 泰章

  NEC・ULSIデバイス開発研究所

• 吉川 公麿

  NEC・ULSIデバイス開発研究所

• Kikkawa Takamaro

  Millenium Research For Advanced Information Technology (mirai)-asrc Aist

• 土屋 泰章

  Necエレクトロニクス

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著作論文

• セルフアラインプラグを有する0.25μm埋め込み配線
• XPSによるサブミクロンCuビアホールのクリーニング方法の解析
• 微細Cu配線プロセスにおける成膜技術の現状と課題
• ULSI配線技術の動向

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