宮崎 誠一 | 広島大学工学部
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概要
関連著者
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宮崎 誠一
広島大学工学部
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広瀬 全孝
産業技術総合研究所
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広瀬 全孝
広島大学工学部
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廣瀬 全孝
広島大学工学部
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岩田 穆
広島大学工学部
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池田 弥央
広大院先端研
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香野 淳
福岡大学理学部
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池田 弥央
広島大学工学部
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村上 秀樹
広島大学工学部
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土居 武司
広島大学工学部
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香野 淳
福岡大学理学研究科応用物理学専攻
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大竹 浩
NHK放送技術研究所
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平野 喜之
日本放送協会 放送技術研究所
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水林 亘
半導体MIRAIプロジェクト-ナノ電子デバイス研究センター
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阿部 正英
広島国際大学社会環境科学部
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水林 亘
広島大学工学部
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吉田 友一
広島大学工学部
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上原 暁人
広島大学 ナノデバイス・システム研究センター
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横山 新
広島大学集積化システム研究センター
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難波 徹
広島大学集積化システム研究センター
-
上原 暁人
広島大学集積化システム研究センター
-
永田 真
広島大学集積化システム研究センター
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芝原 健太郎
広島大学集積化システム研究センター
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阿江 忠
広島大学工学部
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吉川 公麿
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
-
芝原 健太郎
広大
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斎藤 信雄
NHK放送技術研究所
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斎藤 信雄
(株)国際電気通信基礎技術研究所
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大竹 浩
日本放送協会放送技術研究所
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佐藤 史郎
日本放送協会放送技術研究所
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斎藤 信雄
日本放送協会放送技術研究所
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阿部 正英
日本放送協会放送技術研究所
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吉川 公麿
広島大学:産業総合研究所
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山田 紘士
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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森野 航一
広島大学工学部
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柴 和利
広島大学工学部
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坂本 邦秀
広島大学工学部
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出木 秀典
広島大学工学部
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大村 昌伸
広島大学工学部
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木寺 俊郎
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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芝原 健太郎
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所:広島大学大学院先端物質科学研究科
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柴 和利
NEC先端デバイス開発本部
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石田 彰一
森田化学工業株式会社
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宮本 光雄
森田化学工業株式会社
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長田 利哲
森田化学工業株式会社
-
川澤 吉雄
森田化学工業株式会社
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横山 新
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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阿江 忠
広島大学 工学部
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西山 文隆
広島大学放射線総合実験室
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藤原 直憲
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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Kikkawa Takamaro
Millenium Research For Advanced Information Technology (mirai)-asrc Aist
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水林 亘
広島大学大学院 先端物物質科学研究科
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石田 彰一
森田化学工業株式会社:東北大学電気通信研究所超高密度・高速知能システム実験施設
-
八坂 龍広
広島大学工学部
-
申 英寿
広島大学工学部
著作論文
- 極薄ゲート酸化膜におけるSoft Breakdownの統計解析
- シリコン量子ドットフローティングゲートMOS構造の電子注入特性とメモリ機能
- SC-8-4 Si量子ドットの自己組織化形成とフローティングゲートMOSメモリへの応用
- シリコン量子ドットの自己組織化形成と発光特性
- FD-TD法によるLSIチップ内光配線の解析
- 光配線を用いたパターン認識システム基本回路の設計と試作
- 10-6 シリコンナノ結晶材料を用いた光導電膜の検討
- シリコン量子ドットフローティングゲートMOS構造の電子注入特性とメモリ機能
- リン再分布によるゲート酸化膜の構造緩和
- 高流動性プラズマ CVD による薄膜形成
- プラズマCVDにおける表面反応制御(最新のプラズマプロセス技術)
- 熱酸化ポーラスシリコンの時間分解フォトルミネッセンス
- 狭バンドギャップa-Si:H/a-Ge:H極薄多層膜の光学的及び電気的特性の評価
- 水素結合は不要 : 局在準位を介した発光再結合の可能性
- Si(100)表面の水素終端化に及ぼすBHF処理の影響
- (Ba,Sr)TiO_3高誘電率膜特性の電極金属依存症
- 9.各種材料の層状成長 : 9.2シリコンウエハの自然酸化
- ポリシランの低温成長