大竹 浩 | NHK放送技術研究所

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概要

• 同名の論文著者
• NHK放送技術研究所の論文著者

関連著者

• 大竹 浩

  NHK放送技術研究所

• 林田 哲哉

  NHKエンジニアリングサービス

• 渡部 俊久

  NHK放送技術研究所

• 新井 俊希

  NHK放送技術研究所

• 丸山 裕孝

  NHK放送技術研究所

• 林田 哲哉

  NHK放送技術研究所

• 北村 和也

  NHK放送技術研究所

• 丸山 裕孝

  Nhk放送センター

• 江上 典文

  NHK放送技術研究所

• 米内 淳

  NHK放送技術研究所

• 阿部 正英

  広島国際大学社会環境科学部

• 阿部 正英

  NHK放送技術研究所

• 渡辺 敏英

  NHK放送技術研究所

• 谷岡 健吉

  NHK放送技術研究所

• 江藤 剛治

  近畿大学

• 西田 泰章

  NHK放送技術研究所

• 西田 泰章

  Nhk

• 山内 正仁

  NHK放送技術研究所

• 山内 正仁

  日本放送協会

• 瀧口 吉郎

  NHK放送技術研究所

• 後藤 正英

  NHK放送技術研究所

• 国分 秀樹

  NHK放送技術研究所

• 相原 聡

  NHK放送技術研究所

• 江上 典文

  Nhk放送技術研究所撮像デバイス

• 石黒 雄一

  NHK仙台放送局

• 久保田 節

  NHK放送技術研究所

• 瀬尾 北斗

  NHK放送技術研究所

• 田島 利文

  NHK放送技術研究所

• 小杉 美津男

  NHK放送技術研究所

• 大竹 浩

  NHK 放送技術研究所

• 小杉 美津男

  NHK福岡放送局

• 石黒 雄一

  NHK放送技術研究所

• 飯野 芳己

  NHK放送技術研究所

• 島本 洋

  NHK放送技術研究所

• 江藤 剛治

  近畿大学理工学部

• 古田 守

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 栗田 泰市郎

  NHK放送技術研究所

• 山野 浩司

  NHK広島放送局

• 藤掛 英夫

  NHK放送技術研究所

• 平尾 孝

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 渡辺 敏英

  NHK技術局

• 川人 祥二

  静岡大学 電子工学研究所

• 川人 祥二

  静岡大学

• 藤崎 好英

  NHK放送技術研究所(表示・機能素子研究部)

• 飯野 芳己

  NHK広島放送局

• 井上 陽司

  NHK技研

• 西田 泰章

  NHK技術局

• 井上 陽司

  NHK放送技術研究所

• 難波 正和

  NHK放送技術研究所

• 川人 祥二

  静岡大学電子工学研究所

• 浜本 隆之

  東京理科大学大学院工学研究科電気工学専攻

• 平松 孝浩

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 国分 秀樹

  (財)NHKエンジニアリングサービス

• 時任 静士

  NHK放送技術研究所(表示・機能素子研究部)

• 宮川 和典

  NHK放送技術研究所

• 山野 浩司

  NHK放送技術研究所

• 時任 静士

  Nhk放送技術研究所

• バン・クイク ハリー

  ダルサ株式会社

• 真鍋 宗平

  株式会社東芝セミコンダクター社 システムlsi事業部

• 川人 祥二

  静大・電研

• 松田 時宜

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 井口 義則

  NHK放送技術研究所

• 菊地 健司

  NHK放送技術研究所

• 吉田 哲男

  日立国際電気

• 原田 望

  (株)東芝 ULSI研究所

• 吉田 哲男

  パイオニア株式会社総合研究所

• 高柳 功

  アプティナジャパン

• 小野田 篤

  浜松ホトニクス株式会社

• 須川 成利

  東北大学 大学院工学研究科

• 磯部 圭吾

  (株)ブルックマン・ラボ

• 遠藤 幸雄

  東芝

• 小池 純郎

  Nhk放送技術研究所 表示・光デバイス

• 小池 純郎

  Nhk

• 須川 成利

  東北大学 大学院 工学研究科

• 渡部 俊久

  NHK 放送技術研究所

• 小杉 智彦

  (株)ブルックマン・ラボ

• 太田 淳

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 堺 俊克

  NHK放送技術研究所

• 佐藤 史郎

  NHK放送技術研究所

• 飯田 哲也

  株式会社ブルックマンテクノロジ

• 赤堀 知行

  株式会社ブルックマンテクノロジ

• 須川 成利

  東北大学大学院工学研究科

• 太田 淳

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科:jst Crest

• 宮川 和典

  NHKエンジニアリングサービス

• 鈴木 四郎

  NHK放送技術研究所

• 高畠 保

  NHK放送技術研究所

• 上野 雅史

  三菱電機株式会社 先端技術総合研究所

• 安藤 隆男

  静岡大学

• 安藤 隆男

  静岡大学電子工学研究所

• 安藤 隆男

  静岡大学電子工学研究所 テレビジョン学会画像入力シンポジウム実行委員会

• 安藤 隆男

  財団法人浜松地域テクノポリス推進機構浜松地域知的クラスター本部

• 諸星 光造

  NHK放送技術研究所

• 武藤 信彦

  パナソニック株式会社 セミコンダクター社

• 柴田 英紀

  (株)東芝 Ulsi研究所

• 樽木 久征

  東京理科大学大学院工学研究科電気工学専攻

• 斎藤 信雄

  NHK放送技術研究所

• 斎藤 信雄

  (株)国際電気通信基礎技術研究所

• 並木 貴之

  理科大

• 小室 孝

  東京大学

• Kawahito Shoji

  Research Institute Of Electronics Shizuoka University

• 遠藤 幸雄

  (株)東芝

• 江木 雄一郎

  東京大学 工学部 電子情報工学科

• 小池 純郎

  Nhk放送技術研究所

• 並木 純

  日立電子テクノシステム(株)

• 松下 裕樹

  NHK放送技術研究所

• 本田 悠葵

  NHK放送技術研究所

• 中村 和仁

  双葉電子工業株式会社

• 谷口 昌照

  双葉電子工業株式会社

• 角 博文

  ソニー(株)半導体(事)イメージセンサ事業部

• 青山 聡

  (株)ブルックマン テクノロジ

• 新田 浩士

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 萩原 啓

  NHK放送技術研究所

• 後藤 正英

  NHK 放送技術研究所

• 丸山 裕孝

  NHK 放送技術研究所

• 江上 典文

  NHK 放送技術研究所

• 谷岡 健吉

  NHK 放送技術研究所

• 国文 秀樹

  (財)NHKエンジニアリングサービス

• 井上 哲理

  神奈川工科大学情報ネットワーク工学科

• 山崎 順一

  NHK放送技術局

• 柴田 英紀

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 磯部 圭吾

  (株)ブルックマンテクノロジ

• 赤堀 知行

  (株)ブルックマン・ラボ

• 小室 孝

  東京大学大学院情報理工学系研究科

• 高柳 功

  マイクロンジャパン

• 倉重 光宏

  松下電器産業株式会社

• 相澤 清晴

  東京大学 工学部電気工学科

• 羽鳥 光俊

  東京大学 工学部電気工学科

• 藤田 欣裕

  NHK放送技術研究所

• 上平 員丈

  神奈川工科大学ヒューマンメディア研究センタ

• 太田 淳

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 相澤 清晴

  東京大学 大学院 情報学環

• 井上 哲理

  神奈川工科大学

• 井上 哲理

  神奈川工科大

• OHTAKE Hiroshi

  NHK Science & Technical Research Laboratories

• 平野 喜之

  日本放送協会 放送技術研究所

• 松長 誠之

  (株)東芝研究開発センターULSI研究所

• 年吉 洋

  東京大学

• 年吉 洋

  東大生産研

• 平尾 孝

  高知工科大学総合研究所

• 遠藤 幸男

  (株)東芝 Ulsi研究所

• 上平 員丈

  神奈川工科大学

• 上平 員丈

  Nttサイバースペース研究所

• 小宮 一三

  神奈川工科大学

• 真鍋 宗平

  (株)東芝 ULSI研究所

• 飯野 荒已

  NHK放送技術研究所

• 平野 喜之

  NHK放送技術研究所

• 安藤 隆男

  静岡大

• 浜本 隆之

  東京理科大学 大学院 工学研究科

• 浜本 隆之

  東京理科大学院工学研究科電気工学専攻

• 日暮 栄治

  東京大学

• 須川 成利

  東北大学

• 広瀬 全孝

  産業技術総合研究所

• 小杉 美津男

  NHK

• 大野 洋

  東京大学電子情報工学科

• 宮崎 誠一

  広島大学工学部

• 廣瀬 全孝

  広島大学工学部

• 山崎 順一

  Nhk 放送技術研究所

• 原田 耕一

  ソニー株式会社厚木テクノロジーセンター超LSI開発本部第1研究部

• 青山 聡

  株式会社ブルックマンテクノロジ

• 山口 武彦

  ナルックス(株)

• 吉田 哲男

  (株)日立国際電気

• 林 直人

  NHK放送技術研究所

• 武藤 信彦

  松下電子工業株式会社ccd事業部

• 角 博文

  ソニー株式会社CPDG半導体事業本部IS事業部

• 大島 宗之

  富士フイルム株式会社R&D統括本部 電子映像商品開発センター

• 渡辺 恭志

  (株)ブルックマン・ラボ

• 高橋 秀和

  キヤノン株式会社

• 三沢 岳志

  富士フイルム株式会社

• 更屋 拓哉

  東京大学生産技術研究所

• 大竹 浩

  日本放送協会放送技術研究所

• 佐藤 史郎

  日本放送協会放送技術研究所

• 斎藤 信雄

  日本放送協会放送技術研究所

• 阿部 正英

  日本放送協会放送技術研究所

• 澤田 和明

  静岡大

• 澤田 和明

  静岡大学電子工学研究所

• 並木 貴之

  東京理科大学理学部

• 平野 善之

  NHK放送技術研究所

• 小林 希一

  NHK放送技術研究所

• 原田 耕一

  ソニー株式会社厚木テクノロジーセンター

• 北川 清一郎

  ナルックス(株)

• 平本 俊郎

  東京大学 大規模集積システム設計教育研究センター

• 望月 徹

  NHK技術局

• 高橋 秀和

  キヤノン株式会社デバイス開発本部

• 倉重 光宏

  高知工科大学

• 倉重 光宏

  松下電器産業(株)東京支社

• 藤掛 英夫

  Nhk 放送技研

• 澤田 和明

  静岡大学・電子工学研究所

• 近藤 泰志

  (株)島津製作所

• 中山 美穂

  NHK

• 相澤 清晴

  東京大学電子情報工学科

• 江木 雄一郎

  東京大学電子情報工学科

• 浜本 隆之

  東京大学電子情報工学科

• 羽鳥 光俊

  東京大学電子情報工学科

• 大久保 達也

  NHK放送技術研究所

• 中山 美穂

  NHK放送技術研究所 イメージデバイス研究部

• 武藤 信彦

  日本電気株式会社マイクロエレクトロニクス研究所

• 金山 茂弘

  富士写真光機(株)

• 金山 茂弘

  フジノン株式会社光学機器部

• 浜本 隆之

  東京理科大学工学部

• 近藤 泰志

  島津製作所

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著作論文

• 有機光導電膜とZnO TFT回路の積層構造を用いた有機撮像デバイスの原理実証実験
• 固体HARP用CMOSイメージセンサの固定パターン雑音低減(画像入出力および一般)
• 固体HARP用高S/N信号読み出し回路 (超高感度撮像技術特集号)
• パルス出力型広ダイナミックレンジCMOSイメージセンサの検討(高機能イメージセンサ)
• 5-1 可変しきい値を用いたリニア出力型広ダイナミックレンジ撮像デバイス
• 固体HARP用CMOS信号読み出し回路の高S/N化
• 固体HARP用高S/N信号読み出し回路の検討
• 24-6 団体HARP用高S/N信号読み出し回路検討
• 酸化亜鉛TFTを信号読出し回路に用いた有機膜積層型撮像デバイス(高機能イメージセンサとその応用)
• 次世代画像入力(映像情報メディア年報)
• プリプロセス形CCDイメージセンサ : 画素加算形1/3インチ16万画素CCD撮像素子 : 情報入力
• HARP膜積層CMOS撮像素子の積層技術
• 10-3 HARP膜積層CMOSイメージセンサのプロセス開発
• HARP膜積層CMOSイメージセンサの設計とプロセス開発
• HARP膜積層CMOSイメージセンサの評価
• 情報センシング
• 1-1. 情報センシング(1.画像エレクトロニクス,映像情報メディア年報)
• 24-1 次世代撮像デバイス開発に向けた新素材の検討
• 10-6 シリコンナノ結晶材料を用いた光導電膜の検討
• 12-3 HARP膜積層CMOSイメージセンサの試作
• 4)Au/p型α-SiC : H/α-Si : H/n型C-Si構造フォトダイオードにおける光電流・暗電流のn型C-Si不純物濃度依存性(情報センシング研究会)
• Au/p型a-SiC : H/a-Si : H/n型c-Si構造フォトダイオードにおける光電流・暗電流のn型c-Si不純物濃度依存性
• 超高速度CCDのダイナミックレンジ特性改善(特別企画「CCD誕生40年記念講演〜普及拡大期〜」,イメージセンサ一般)
• 動画像圧縮イメージセンサ(固体撮像とその関連技術)
• 超高速度CCDのダイナミックレンジ特性改善 (情報センシング)
• ボトムコンタクト型有機TFTの特性改善とそれを用いたフレキシブル液晶表示パネルの試作(ディスプレイ-IDW/AD'05を中心に-)
• ボトムコンタクト型有機TFT駆動フレキシブル液晶表示パネルの試作
• ボトムコンタクト型有機TFT駆動フレキシブル液晶表示パネルの試作
• ボトムコンタクト型有機TFT駆動フレキシブル液晶表示パネルの試作(ディスプレイに関する技術全般 : LCD(バックライトを含む), PDP, 有機/無機EL, CRT, FED, VFD, LEDなどのディスプレイに関するデバイス, 部品・材料及び応用技術, 発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• 超高速度カメラ用光学トリガ装置の試作
• 超高速度高感度カラーカメラの開発
• 5)プリプロセス型CCD撮像素子(〔テレビジョン方式・回路研究会 テレビジョン電子装置研究会〕合同)
• HARP積層型CMOS撮像素子用Au画素電極の形成(映像入出力および一般)
• HARP積層型CMOS撮像素子用Au画素電極の形成
• HARP膜積層CMOS撮像素子の積層技術
• HARP膜積層CMOSイメージセンサの設計とプロセス開発
• 高感度固体撮像素子の実現に向けたMOSFETの高耐圧化
• 超高感度を目指すHARP積層型固体イメ-ジセンサ-
• 8)アバランシェ増倍膜積層型イメージセンサ用MOSトランジスタの高耐圧化
• 4)プリプロセス型CCDイメージセンサ : 画素加算型1/3インチ16万画素CCD撮像素子(情報入力研究会)
• 1)プリプロセス型CCDカメラ-CCDカメラの高感度化と広ダイナミックレンジ化(ハイビジョン特別研究会情報入力研究会)
• プリプロセス型CCDカメラ : CCDカメラの高感度化と広ダイナミックレンジ化
• 3-2 プリプロセス型CCDカメラ : CCDカメラの高感度化と広ダイナミックレンジ化
• 非晶質シリコン薄膜のX線照射による結晶化
• 1-3 HDTV用固体カメラの雑音評価装置
• 2)固体撮像素子の雑音と検知限特性(情報入力研究会)
• 2-10 固体撮像素子における固体パターン雑音の検知限特性に関する検討
• 固体撮像素子の新構成法(固体撮像技術)
• 固体HARP用CMOS信号読み出し回路の高S/N化
• 固体HARP用高S/N信号読み出し回路の検討
• フレーム間およびフレーム内相関を用いた動画像圧縮イメージセンサ(イメージセンシング技術とその応用)
• フレーム間およびフレーム内相関を用いた画像圧縮イメージセンサ
• 2-1緻密な目(2.イメージセンサ技術)(次世代イメージセンシング技術)
• 高精細、超高精細カメラの動向
• 1.増幅形イメージセンサ( インテリジェント化を目指す電子の目 CMOSイメージセンサ)
• 1)CCD型撮像素子のノイズと今後の課題(〔テレビジョン電子装置研究会(第138回)画像表示研究会(第101回)〕合同)
• CCD型撮像素子のノイズと低雑音信号読出し法
• 固体HARP用CMOSイメージセンサの固定パターン雑音低減
• HARP膜積層MOSイメ-ジセンサ-の研究 (特集 ′98技研公開講演・研究発表会)
• 解説 高精細イメージセンサの現状と展望
• イメージセンサ上での動画像圧縮 : 画素並列構成による新しい設計と試作(固体撮像とその関連技術)
• 30万画素超高速度高感度CCDとそれを用いた単板カラーカメラの開発
• C-12-37 200万枚/秒30万画素超高速度CCDの開発(C-12.集積回路,一般セッション)
• 裏面照射型超高速度CCDの設計(半導体材料・デバイス)
• 200万枚/秒30万画素超高速度CCDの開発(半導体材料・デバイス)
• 12ビットカラム並列2段サイクリックADCを用いた3300万画素120fps CMOSイメージセンサ(固体撮像技術および一般)
• 5-8 超高速度高感度CCDの開口率改善(第5部門 情報センシング1)
• 17-12 30万画素単板式超高速度高感度カラーカメラ(第17部門 情報センシング2)
• 23-1 30万画素超高速度高感度CCD(第23部門 イメージセンサII)
• 8-1 超高速度カメラ用光学トリガ装置の試作(第8部門 画像入出力技術・他)
• 20-4 超高速度カメラ用映像トリガ装置の試作(第20部門 特殊撮像・新機能新原理のイメージセンサ)
• 19-3 15万画素超高速度高感度CCDの設計(第19部門 スマートセンサ・撮像技術)
• 12-8 電界集束型FEA-HARPの基礎検討(第12部門 センシング2)
• 11-13 信号読出し回路に酸化亜鉛TFTを用いた有機膜積層型撮像デバイス(第11部門 情報センシング1)
• 5-5 RGB積層有機光センサの試作と色分解特性(第5部門 情報センシング1)
• ダイナミックレンジ補償機能を付加した200万枚/秒30万画素単板式放送用超高速度カラーカメラ
• 12ビットカラム並列2段サイクリックADCを用いた3300万画素120 fps CMOSイメージセンサ
• 8-5 a-Si TFT用ゲート絶縁膜の検討(第8部門 センシング)
• 2-14 ボトムコンタクト型有機TFT駆動液晶表示パネルのプラスチック基板上への試作(第2部門 情報ディスプレイ)
• 7-1 振り分け蓄積イメージセンサを用いた二つの露光パターンによる撮像の検討(第7部門 センシング&ストレージ)
• バースト5.2テラ画素/秒の撮像速度を有する裏面照射型撮像素子(固体撮像技術および一般〜IEDM, SPIE EI, ISSCC特集〜)
• 19-5 フルスペックSHVイメージセンサ用12ビットカラム並列2段サイクリックADCの低消費電力設計(第19部門[テーマ講演]科学技術のフロンティアを切り拓くイメージセンサ技術)
• 5-7 128x96画素RGB積層有機撮像デバイスの試作(第5部門 情報センシング)
• 14-12 有機撮像デバイスの高解像度化,高効率化に向けた作製プロセスの基礎検討(第14部門情報センシング)
• 22-7 感度13倍改善した31万画素裏面照射型超高速度CCD(第22部門情報センシング(2))
• 2-12 ダイナミックレンジ補償機能を付加した200万枚/秒30万画素単板式放送用超高速度カラーカメラ(第2部門 情報ディスプレイ,マルチメディアストレージ,コンシューマエレクトロニクス,情報センシング)
• 22-6 31万画素裏面照射型超高速度CCDの100万枚/秒時フルダイナミックレンジ動作(第22部門情報センシング(2))
• 14-3 裏面照射型超高速度CCD上へのカラーフィルタおよびマイクロレンズの適用(第14部門情報センシング)
• 3,300万画素120fps CMOSイメージセンサ用カラム並列2段サイクリック型A/D変換回路の低消費電力設計
• 対表面照射型比感度12.7倍1670万枚/秒31万画素裏面照射型超高速度CCD撮像素子(半導体材料・デバイス)
• フレーム周波数120Hzスーパーハイビジョン用イメージセンサの高感度化(インタラクティブシステム・画像入力デバイス・方式,バイオメトリクス,及び一般)
• 11-10 120Hzスーパーハイビジョン用イメージセンサを用いたデジタルCDS回路の検討(第11部門 情報センシング,マルチメディアストレージ,情報ディスプレイ)
• 1-1. 情報センシング(1. 画像エレクトロニクス,映像情報メディア年報〜2008年4月から2010年3月の進展〜)
• 超高速度CCDのダイナミックレンジ特性改善
• 11-7 結晶セレンを用いた電荷注入型光電流増倍素子の検討(第11部門 情報センシング,マルチメディアストレージ,情報ディスプレイ)
• 11-3 撮像デバイスの3 次元集積化に向けた要素技術の開発(第11部門 情報センシング,情報ディスプレイ)
• 11-4 結晶セレンを用いたヘテロ接合型PNフォトダイオードの光電変換特性(第11部門 情報センシング,情報ディスプレイ)
• 15-1 有機撮像デバイスの高解像度化に向けた直接積層構造の開発(第15部門情報センシング1)
• 10-4 0.11μm製造プロセスを用いた120Hzスーパーハイビジョン用イメージセンサの感度特性(第10部門情報センシング1)

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