平尾 孝 | 高知工科大学 ナノデバイス研究所

スポンサーリンク

概要

• 平尾 孝の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 高知工科大学 ナノデバイス研究所の論文著者

関連著者

• 平尾 孝

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 平尾 孝

  高知工科大学総合研究所

• 古田 守

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 平尾 孝

  高知工科大

• 古田 守

  高知工科大学ナノデバイス研究所

• 古田 守

  高知工科大学

• 平松 孝浩

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 松田 時宜

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 古田 寛

  高知工科大学

• Furuta H

  Graduate School Of Science Osaka University

• Furuta Hiroshi

  Department Of Earth And Space Science Osaka University

• 松田 時宜

  高知工科大学

• 古田 寛

  大阪大学・理学部

• 尾浦 憲治郎

  大阪大学大学院

• 尾浦 憲治郎

  阪大工

• Furuta H

  Research Institute For Nanodevices Kochi University Of Technology

• Furuta Hiroshi

  Research Institute, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan

• 平尾 孝

  高知工科大 ナノデバイス研

• 川原村 敏幸

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 川原村 敏幸

  高知工科大学

• 久保田 節

  NHK放送技術研究所

• 江上 典文

  NHK放送技術研究所

• 渡部 俊久

  NHK放送技術研究所

• 瀬尾 北斗

  NHK放送技術研究所

• 相原 聡

  NHK放送技術研究所

• 大竹 浩

  NHK放送技術研究所

• 平尾 孝

  大阪大学工学部

• 江上 典文

  Nhk放送技術研究所撮像デバイス

• 江上 典文

  NHK放送技術研究所撮像・記録デバイス研究部

• 瀬尾 北斗

  日本放送協会放送技術研究所撮像・記録デバイス

• 安藤 豊

  (財)ファインセラミックスセンター Fct研究本部

• 小橋 宏司

  (財)ファインセラミックスセンター Fct研究本部

• 小橋 宏司

  (財)ファインセラミックスセンター

• 李 朝陽

  高知工科大

• 西林 良樹

  住友電気工業(株)半導体技術研究所

• 李 朝陽

  高知工科大学ナノデバイス研究所

• 江上 典文

  近畿大学

• 難波 正和

  NHK放送技術研究所

• 尾浦 憲治郎

  大阪大学工学部

• 李 奎毅

  大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 本多 信一

  Division Of Electrical Electronic And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka U

• Honda Shin-ichi

  Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Osaka University

• 片山 光浩

  Division Of Electrical Electronic And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka U

• Katayama Mitsuhiro

  Osaka Univ. Osaka Jpn

• 藤田 静雄

  京都大学大学院

• 藤田 静雄

  京大 国際融合創造セ

• 久保田 節

  Nhk 放送技研

• 藤田 静雄

  京都大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 瀬尾 北斗

  NHK技研

• 渡部 俊久

  Nhk放送技術研究所:静岡大学創造科学技術大学院

• 尾浦 憲治郎

  大阪大学工学研究科

• 西林 良樹

  FCTプロジェクト/JFCC

• 安藤 豊

  FCTプロジェクト/JFCC

• 小橋 宏司

  FCTプロジェクト/JFCC

• 李 奎毅

  大阪大学工学部

• 安藤 豊

  (財)ファインセラミックセンター

• 西林 良樹

  (財)ファインセラミックセンター

• 小橋 宏司

  (財)ファインセラミックセンター

• 大倉 重治

  大阪大学大学院工学研究科電子工学専政

• 辻 啓太

  大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 生野 孝

  大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 本多 信一

  大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 片山 光浩

  大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 平尾 孝

  大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻

• 生野 孝

  阪大工

• 尾浦 憲治郎

  大阪大学

• 平尾 孝

  大阪大学大学院工学研究科

• 平尾 孝

  大阪大学

• 織田 容征

  東芝三菱電機産業システム株式会社

• 白幡 孝洋

  東芝三菱電機産業システム株式会社

• 井川 拓人

  京都大学大学院 工学研究科電子工学専攻

• 伊藤 大師

  京都大学大学院 工学研究科電子工学専攻

• 吉田 章男

  東芝三菱電機産業システム株式会社

• 王 大鵬

  高知工科大学 電子・光工学専攻

• 相原 聡

  Nhk技研

• 吉田 章男

  東芝三菱電機産業システム(株)

• 李 奎毅

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 王 大鵬

  高知工科大学 ナノテクノロジー研究所

• 新田 浩士

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 藤田 静雄

  京都大学大学院工学研究科

• 平松 孝浩

  高知カシオ株式会社

• 青木 勝詔

  ソナック(株)

• 鈴木 恵友

  ソナック(株)

• 高梨 久美子

  ソナック(株)

• 石井 一久

  ソナック(株)

• SATYANARAYANA B.

  ソナック(株)

• 古田 寛

  大阪大学工学部

• 古田 寛

  NEDO/JFCC

• 古田 寛

  JFCC/NEDOフェロー

• 目黒 貴一

  住友電工伊丹研究所

• 今井 貴浩

  住友電工伊丹研究所

• 堺 俊克

  NHK放送技術研究所

• 尾浦 憲治郎

  物理系学術誌刊行センター

• OHTAKE Hiroshi

  NHK Science & Technical Research Laboratories

• 藤田 茂夫

  京都大学大学院工学研究科電子工学

• Fujita Shiz

  Kyoto Univ. Kyoto Jpn

• 藤田 静雄

  京都大学国際融合創造センター

• 林 延幸

  大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 辻 啓太

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 藤本 圭一

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 大倉 重治

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 本多 信一

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 片山 光浩

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 今井 貴浩

  住友電気工業(株)半導体技術研究所

• Fujita S

  Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University

• 今井 貴浩

  住友電気工業 半導体研

• 高橋 俊二

  大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 尾山 拓次

  大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 藤田 静雄

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻所属

• 目黒 貴一

  住友電気工業(株)半導体研究所

• Fujita Shigetaka

  Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Hachinohe Institute Of Te

• Fujita Shigetaka

  Department Of Electrical Engineering Hachinohe Institute Of Technology

• 平松 孝浩

  高知工科大学ナノデバイス研究所

• 平尾 孝

  高知工科大学ナノデバイス研究所

• 平尾 孝

  高知工科大学

• 古田 寛

  高知工科大学ナノデバイス研究所

• 堺 俊克

  NHK技研

• 今井 貴浩

  住友電気工業(株)半導体研究所

• 鎌田 雄大

  京都大学大学院工学研究科

• 大倉 重治

  大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 大竹 浩

  NHK放送技術研究所撮像・記録デバイス研究部

• 相原 聡

  NHK放送技術研究所撮像・記録デバイス研究部

• 松田 時宜

  高知工科大学ナノデバイス研究所

• 渡部 俊久

  NHK放送技術研究所撮像・記録デバイス研究部

• 堺 俊克

  NHK放送技術研究所撮像・記録デバイス研究部

• 大倉 重治

  大阪大学工学研究科

• 片山 光浩

  大阪大学工学研究科

• 本多 信一

  大阪大学工学研究科

もっと見る 閉じる

著作論文

• 有機光導電膜とZnO TFT回路の積層構造を用いた有機撮像デバイスの原理実証実験
• カーボンナノチューブ量産技術開発と電界電子放出素子への応用
• 基板バイアスにより制御されたZnO薄膜の結晶性とドライエッチングにより形成される側壁形状との相関
• 選択エッチング法によるナノサイズ炭素エミッタ形成
• ダイヤモンドへの内部電極の形成とそれを用いた電子放出素子 : エミッタ電極のセルフアライン加工
• ダイヤモンドの高度な反応性イオンエッチング
• 単結晶ダイヤモンドの電子デバイス応用のための微細突起加工
• 酸化亜鉛TFTを信号読出し回路に用いた有機膜積層型撮像デバイス(高機能イメージセンサとその応用)
• 触媒金属微粒子制御による垂直配向カーボンナノチューブ薄膜の作製
• マグネトロンスパッタ法を用いたカーボンナノチューブの直径及び密度制御
• 酸化亜鉛(ZnO)薄膜トランジスタの開発とディスプレイ応用
• 酸化亜鉛薄膜トランジスタ(ZnO TFT)の開発とその応用 (特集 可能性広がる酸化亜鉛--実用化に向けた開発動向を探る)
• 映像ディスプレイからみたTFT技術の今後の展望 (液晶・半導体関連技術小特集)
• ZnO材料に関するこれまでの研究・応用例 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
• ナノ構造単結晶ダイヤモンドの精密加工
• 高真空レーザアブレーション法による炭素粒子を核としたカーボンナノチューブの作製と評価
• 炭素系高機能材料技術の研究開発--フロンティアカーボンテクノロジー (特集 プロジェクト研究)
• ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• エレワザ×エレザイ(FILE 10)ミストを利用した薄膜成長技術および加工技術の開発
• ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て
• カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用
• ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦
• 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
• 重イオンビームを用いたナノメートルサイズの3次元加工
• 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成(発光型/非発光型ディスプレイ,テーマ:ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術)
• 酸化亜鉛薄膜トランジスタ(ZnO TFT)のバイアスストレス劣化メカニズム(LSIを含む電子デバイスの評価・解析・診断,及び信頼性一般)
• 11-13 信号読出し回路に酸化亜鉛TFTを用いた有機膜積層型撮像デバイス(第11部門 情報センシング1)
• 5-7 128x96画素RGB積層有機撮像デバイスの試作(第5部門 情報センシング)
• 14-12 有機撮像デバイスの高解像度化,高効率化に向けた作製プロセスの基礎検討(第14部門情報センシング)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク