川原村 敏幸 | 高知工科大学
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概要
関連著者
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川原村 敏幸
高知工科大学
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平尾 孝
高知工科大
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平尾 孝
高知工科大学 ナノデバイス研究所
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古田 守
高知工科大学
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川原村 敏幸
高知工科大学 ナノデバイス研究所
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李 朝陽
高知工科大
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平尾 孝
高知工科大 ナノデバイス研
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李 朝陽
高知工科大学ナノデバイス研究所
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古田 寛
高知工科大学
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藤田 静雄
京都大学大学院
-
藤田 静雄
京大 国際融合創造セ
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織田 容征
東芝三菱電機産業システム株式会社
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松田 時宜
高知工科大学
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白幡 孝洋
東芝三菱電機産業システム株式会社
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井川 拓人
京都大学大学院 工学研究科電子工学専攻
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伊藤 大師
京都大学大学院 工学研究科電子工学専攻
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吉田 章男
東芝三菱電機産業システム株式会社
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王 大鵬
高知工科大学 電子・光工学専攻
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王 大鵬
高知工科大学 ナノテクノロジー研究所
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松田 時宜
高知工科大学 ナノデバイス研究所
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古田 守
高知工科大学 ナノデバイス研究所
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平尾 孝
高知工科大学総合研究所
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眞田 克
高知工科大学
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Furuta H
Graduate School Of Science Osaka University
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Furuta Hiroshi
Department Of Earth And Space Science Osaka University
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Furuta H
Research Institute For Nanodevices Kochi University Of Technology
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古田 守
高知工科大学ナノテクノロジー研究所
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古田 寛
大阪大学・理学部
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吉田 章男
東芝三菱電機産業システム(株)
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Furuta Hiroshi
Research Institute, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan
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古田 守
高知工科大学ナノデバイス研究所
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藤田 静雄
京都大学大学院工学研究科
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藤田 茂夫
京都大学大学院工学研究科電子工学
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Fujita Shiz
Kyoto Univ. Kyoto Jpn
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藤田 静雄
京都大学国際融合創造センター
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Fujita S
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
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藤田 静雄
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻所属
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内田 貴之
京都大学大学院工学研究科
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Fujita Shigetaka
Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Hachinohe Institute Of Te
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Fujita Shigetaka
Department Of Electrical Engineering Hachinohe Institute Of Technology
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藤田 静雄
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
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川原村 敏幸
高知工科大学ナノテクノロジー研究所
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李 朝暘
高知工科大学ナノテクノロジー研究所
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眞田 克
高知工科大学システム工学群
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眞田 克
高知工科大学 システム工学群
-
内田 貴之
高知工科大学 システム工学群
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川原村 敏幸
高知工科大学 ナノテクノロジー研究所
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古田 守
高知工科大学 環境理工学群
著作論文
- ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用
- ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦
- 高知工科大学ナノテクノロジー研究所ナノ材料デバイス研究グループ(研究室紹介)
- ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用
- ミストCVD法によるAlOx薄膜作製に対するO3支援の効果
- 非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlO_x酸化物TFTの作製とその特性