古田 守 | 高知工科大学ナノテクノロジー研究所
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概要
関連著者
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古田 守
高知工科大学ナノテクノロジー研究所
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古田 守
高知工科大学
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川原村 敏幸
高知工科大学
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久保田 節
NHK放送技術研究所
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瀬尾 北斗
NHK放送技術研究所
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相原 聡
NHK放送技術研究所
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古田 守
高知工科大学 ナノデバイス研究所
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古田 寛
高知工科大学
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青木 勝詔
ソナック(株)
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堺 俊克
NHK放送技術研究所
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内田 貴之
京都大学大学院工学研究科
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眞田 克
高知工科大学
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Furuta H
Graduate School Of Science Osaka University
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Furuta Hiroshi
Department Of Earth And Space Science Osaka University
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Furuta H
Research Institute For Nanodevices Kochi University Of Technology
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川原村 敏幸
高知工科大学 ナノデバイス研究所
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川原村 敏幸
高知工科大学ナノテクノロジー研究所
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王 大鵬
高知工科大学 電子・光工学専攻
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李 朝暘
高知工科大学ナノテクノロジー研究所
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堺 俊克
NHK技研
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古田 寛
大阪大学・理学部
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島川 伸一
高知工科大学ナノテクノロジー研究所
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島川 伸一
高知工科大学 ナノテクノロジー研究所
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Furuta Hiroshi
Research Institute, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan
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瀬尾 北斗
日本放送協会放送技術研究所撮像・記録デバイス
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眞田 克
高知工科大学システム工学群
著作論文
- カーボンナノチューブ材料と応用 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
- 高知工科大学ナノテクノロジー研究所ナノ材料デバイス研究グループ(研究室紹介)
- 酸化亜鉛薄膜トランジスタのサブギャップ準位と電気特性・信頼性への影響(シリコン関連材料の作製と評価)
- ミストを利用した薄膜作製技術「ミストCVD法」の開発と「a-IGZO/AlOx構造を有する酸化物TFTの大気圧形成」
- ミストCVD法によるAlOx薄膜作製に対するO3支援の効果
- 11-6 有機撮像デバイス用信号読み出し回路の低温形成技術(第11部門 情報センシング,マルチメディアストレージ,情報ディスプレイ)