川原村 敏幸 | 高知工科大学 ナノデバイス研究所

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概要

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関連著者

• 川原村 敏幸

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 平尾 孝

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 川原村 敏幸

  高知工科大学

• 平尾 孝

  高知工科大

• 平尾 孝

  高知工科大 ナノデバイス研

• 李 朝陽

  高知工科大学ナノデバイス研究所

• 王 大鵬

  高知工科大学 電子・光工学専攻

• 古田 寛

  高知工科大学

• 李 朝陽

  高知工科大

• Furuta H

  Graduate School Of Science Osaka University

• Furuta Hiroshi

  Department Of Earth And Space Science Osaka University

• Furuta H

  Research Institute For Nanodevices Kochi University Of Technology

• 藤田 静雄

  京都大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 古田 寛

  大阪大学・理学部

• Furuta Hiroshi

  Research Institute, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan

• 古田 守

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 藤田 静雄

  京大 国際融合創造セ

• 織田 容征

  東芝三菱電機産業システム株式会社

• 白幡 孝洋

  東芝三菱電機産業システム株式会社

• 古田 守

  高知工科大学ナノデバイス研究所

• 松田 時宜

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 藤田 静雄

  京都大学国際融合創造センター

• 藤田 静雄

  京都大学大学院

• 西中 浩之

  京都大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 藤田 静雄

  半導体エレクトロニクス部門委員会

• 古田 守

  高知工科大学

• 松田 時宜

  高知工科大学

• 井川 拓人

  京都大学大学院 工学研究科電子工学専攻

• 伊藤 大師

  京都大学大学院 工学研究科電子工学専攻

• 吉田 章男

  東芝三菱電機産業システム株式会社

• 吉田 章男

  東芝三菱電機産業システム(株)

• 王 大鵬

  高知工科大学 ナノテクノロジー研究所

• 藤田 静雄

  京都大学大学院工学研究科

• 藤田 茂夫

  京都大学大学院工学研究科電子工学

• Fujita Shiz

  Kyoto Univ. Kyoto Jpn

• 平尾 孝

  高知工科大学総合研究所

• Fujita S

  Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University

• 谷垣 昌敬

  京都大学国際融合創造センター

• 藤田 静雄

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻所属

• 川原村 敏幸

  京都大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 亀谷 圭介

  京都大学国際融合創造センター

• 増田 喜男

  セラミックフォーラム(株)関西事務所

• Fujita Shigetaka

  Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Hachinohe Institute Of Te

• Fujita Shigetaka

  Department Of Electrical Engineering Hachinohe Institute Of Technology

• 古田 守

  高知工科大学ナノテクノロジー研究所

• 西中 浩之

  京都大学大学院工学研究科化学工学専攻

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著作論文

• カーボンナノチューブの合成と電界電子放出ランプ（FEL）への応用
• ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体--スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て (電子ディスプレイ)
• ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製--大気圧下、低温成長への挑戦 (電子ディスプレイ)
• カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用 (電子ディスプレイ)
• ファインチャネルミスト法によるZnO透明薄膜の作製とその特性(半導体エレクトロニクス)
• ミストCVD法の薄膜作製におけるファインチャネルおよび衝突混合の効果
• ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• エレワザ×エレザイ(FILE 10)ミストを利用した薄膜成長技術および加工技術の開発
• ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て
• カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用
• ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦
• ナノテクノロジー研究所のアクティビティレポート2011
• ミストを利用した薄膜作製技術「ミストCVD法」の開発と「a-IGZO/AlOx構造を有する酸化物TFTの大気圧形成」

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