李 朝陽 | 高知工科大学ナノデバイス研究所

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概要

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関連著者

• 李 朝陽

  高知工科大学ナノデバイス研究所

• 川原村 敏幸

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 平尾 孝

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 李 朝陽

  高知工科大

• 川原村 敏幸

  高知工科大学

• 平尾 孝

  高知工科大

• 王 大鵬

  高知工科大学 電子・光工学専攻

• 松田 時宜

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 古田 守

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 古田 寛

  高知工科大学

• 平尾 孝

  高知工科大 ナノデバイス研

• Furuta H

  Graduate School Of Science Osaka University

• Furuta Hiroshi

  Department Of Earth And Space Science Osaka University

• Furuta H

  Research Institute For Nanodevices Kochi University Of Technology

• 古田 守

  高知工科大学

• 松田 時宜

  高知工科大学

• 古田 寛

  大阪大学・理学部

• Furuta Hiroshi

  Research Institute, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan

• 古田 守

  高知工科大学ナノデバイス研究所

• 王 大鵬

  高知工科大学 ナノテクノロジー研究所

• 平尾 孝

  高知工科大学総合研究所

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著作論文

• ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体--スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て (電子ディスプレイ)
• カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て
• カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用

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