Furuta Hiroshi | Research Institute, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
古田 寛
高知工科大学
-
Furuta Hiroshi
Department Of Earth And Space Science Osaka University
-
Furuta H
Research Institute For Nanodevices Kochi University Of Technology
-
Furuta Hiroshi
Research Institute, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Furuta H
Graduate School Of Science Osaka University
-
古田 寛
大阪大学・理学部
-
古田 守
高知工科大学 ナノデバイス研究所
-
松田 時宜
高知工科大学 ナノデバイス研究所
-
平尾 孝
高知工科大学 ナノデバイス研究所
-
古田 守
高知工科大学ナノデバイス研究所
-
平尾 孝
高知工科大学総合研究所
-
古田 守
高知工科大学
-
平尾 孝
高知工科大
-
松田 時宜
高知工科大学
-
Furuta Hiroshi
Research Institute For Nano-devices Kochi University Of Technology
-
平松 孝浩
高知工科大学 ナノデバイス研究所
-
Furuta Mamoru
Research Institute For Nano-devices Kochi University Of Technology
-
Matsuda Tokiyoshi
Research Institute For Nano-devices Kochi University Of Technology
-
川原村 敏幸
高知工科大学 ナノデバイス研究所
-
Hirao Takashi
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
HIRAMATSU Takahiro
Kochi Casio Co., Ltd.
-
青木 勝詔
ソナック(株)
-
HIRAO Takashi
Research Institute, Kochi University of Technology
-
李 朝陽
高知工科大
-
川原村 敏幸
高知工科大学
-
李 朝陽
高知工科大学ナノデバイス研究所
-
Hirao Takashi
Research Institute, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
平松 孝浩
高知カシオ株式会社
-
鈴木 恵友
ソナック(株)
-
高梨 久美子
ソナック(株)
-
石井 一久
ソナック(株)
-
SATYANARAYANA B.
ソナック(株)
-
尾浦 憲治郎
大阪大学大学院
-
平尾 孝
高知工科大 ナノデバイス研
-
尾浦 憲治郎
阪大工
-
AOKI Katsunori
Nitta Haas Company
-
HONDA Shinichi
Department of Electric Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University
-
Yamamoto Tetsurou
Department Of Electrical Engineering Graduate School Of Engineering Osaka University
-
HIRAMATSU Takahiro
Research Institute for Nano-devices, Kochi University of Technology
-
Ikuno Takashi
Department Of Electric Engineering Graduate School Of Engineering Osaka University
-
Hatta Akimitsu
Department Of Electrical Engineering Osaka University:(present Address)department Of Electronic And
-
Oura Kenjiro
Department Of Elecronic Engineering Graduate School Of Engineering Osaka University
-
古田 守
高知工科大学ナノテクノロジー研究所
-
古田 寛
高知工科大学ナノデバイス研究所
-
Oura Kenjiro
Department of Electric Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan
-
Hatta Akimitsu
Department of Electronic and Photonic Systems Engineering, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Aoki Katsunori
Nitta Haas Company, 4-4-26 Sakuragawa, Naniwa-ku, Osaka 556-0022, Japan
-
Chaoyang Li
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology, Tosayamada, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Toshiyuki Kawaharamura
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology, Tosayamada, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Hiroshi Nitta
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology, 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Mamoru Furuta
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology, 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Takashi Hirao
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology, 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Furuta Mamoru
Research Institute, Kochi University of Technology, 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho, Kami-gun, Kochi 782-0003, Japan
-
Furuta Mamoru
Research Institute, Kochi University of Technology, 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho, Kami, Kochi 782-0003, Japan
-
Mamoru Furuta
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology, 185 Miyanokuchi, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Mamoru Furuta
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology, Tosayamada, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Hiroshi Nitta
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology, Tosayamada, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Hirao Takashi
Research Institute, Kochi University of Technology, 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho, Kami-gun, Kochi 782-0003, Japan
-
Hirao Takashi
Research Institute, Kochi University of Technology, 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho, Kami, Kochi 782-0003, Japan
-
Takashi Hirao
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology, 185 Miyanokuchi, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Takashi Hirao
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology, Tosayamada, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Tokiyoshi Matsuda
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology, Tosayamada, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Hiramatsu Takahiro
Kochi Casio Co., Ltd., 2420 Kureda, Nankoku, Kochi 783-0062, Japan
-
Hiramatsu Takahiro
Kochi Casio Co., Ltd., Nankoku, Kochi 783-0062, Japan
-
Takahiro Hiramatsu
Research Institute for Nanodevices, Kochi University of Technology, Tosayamada, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Yamamoto Tetsurou
Department of Electrical Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan
-
Honda Shinichi
Department of Electric Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan
-
Harigai Tooru
Department of Electronic and Photonic Systems Engineering, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan
-
Koji Hirofumi
Department of Electronic and Photonic Systems Engineering, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan
著作論文
- カーボンナノチューブの合成と電界電子放出ランプ(FEL)への応用
- カーボンナノチューブ量産技術開発と電界電子放出素子への応用
- 基板バイアスにより制御されたZnO薄膜の結晶性とドライエッチングにより形成される側壁形状との相関
- 選択エッチング法によるナノサイズ炭素エミッタ形成
- 非耐熱性基板用低温絶縁膜技術の開発 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
- カーボンナノチューブ材料と応用 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
- ZnO-TFTの開発と液晶ディスプレイへの応用 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用 (電子ディスプレイ)
- Effect of Pulsed Substrate Bias on Film Properties of SiO2 Deposited by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition
- 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- Formation of Nanofibers on the Surface of Diamond-Like Carbon Films by RF Oxygen Plasma Etching
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用
- 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
- Low-Temperature Growth of Carbon Nanofiber by Thermal Chemical Vapor Deposition Using CuNi Catalyst
- 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成(発光型/非発光型ディスプレイ,テーマ:ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術)
- XRDを用いたカーボンナノチューブ構造体の結晶構造解析法(LSIを含む電子デバイスの評価・解析・診断,及び信頼性一般)
- SiO2 Insulator Film Synthesized at 100 °C Using Tetramethylsilane by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition
- Influence of Thermal Annealing on Microstructures of Zinc Oxide Films Deposited by RF Magnetron Sputtering
- Effect of Energetic Particle Bombardment on Microstructure of Zinc Oxide Films Deposited by RF Magnetron Sputtering