非耐熱性基板用低温絶縁膜技術の開発 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
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概要
著者
-
松田 時宜
高知工科大学 ナノデバイス研究所
-
古田 守
高知工科大学 ナノデバイス研究所
-
古田 寛
高知工科大学
-
Furuta H
Graduate School Of Science Osaka University
-
Furuta Hiroshi
Department Of Earth And Space Science Osaka University
-
Furuta H
Research Institute For Nanodevices Kochi University Of Technology
-
古田 寛
大阪大学・理学部
-
Furuta Hiroshi
Research Institute, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan
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