カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
-
有機光導電膜とZnO TFT回路の積層構造を用いた有機撮像デバイスの原理実証実験
-
カーボンナノチューブの合成と電界電子放出ランプ（FEL）への応用
-
カーボンナノチューブ量産技術開発と電界電子放出素子への応用
-
基板バイアスにより制御されたZnO薄膜の結晶性とドライエッチングにより形成される側壁形状との相関
-
選択エッチング法によるナノサイズ炭素エミッタ形成
-
非耐熱性基板用低温絶縁膜技術の開発 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
-
カーボンナノチューブ材料と応用 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
-
ZnO-TFTの開発と液晶ディスプレイへの応用 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
-
ダイヤモンドへの内部電極の形成とそれを用いた電子放出素子 : エミッタ電極のセルフアライン加工
-
ダイヤモンドナノエミッタの開発
-
ダイヤモンドの高度な反応性イオンエッチング
-
単結晶ダイヤモンドの電子デバイス応用のための微細突起加工
-
尖鋭突起加工したダイヤモンド電子エミッタの開発
-
先端材料応用技術 ダイヤモンドナノエミッターの作製とその応用
-
酸化亜鉛TFTを信号読出し回路に用いた有機膜積層型撮像デバイス(高機能イメージセンサとその応用)
-
触媒金属微粒子制御による垂直配向カーボンナノチューブ薄膜の作製
-
マグネトロンスパッタ法を用いたカーボンナノチューブの直径及び密度制御
-
Formation of Vertically Aligned Carbon Nanotubes by Dual-RF-Plasma Chemical Vapor Deposition : Surfaces, Interfaces, and Films
-
p形半導体ダイヤモンド陰極を用いた気体放電特性
-
プラズマ処理によるシリコン・ダイヤモンドのナノ構造形成
-
酸化亜鉛(ZnO)薄膜トランジスタの開発とディスプレイ応用
-
酸化亜鉛薄膜トランジスタ(ZnO TFT)の開発とその応用 (特集 可能性広がる酸化亜鉛--実用化に向けた開発動向を探る)
-
ZnO材料に関するこれまでの研究・応用例 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
-
ナノ構造単結晶ダイヤモンドの精密加工
-
カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用 (電子ディスプレイ)
-
高真空レーザアブレーション法による炭素粒子を核としたカーボンナノチューブの作製と評価
-
炭素系高機能材料技術の研究開発--フロンティアカーボンテクノロジー (特集 プロジェクト研究)
-
Self-Organized Pattern Formation in Porous Silicon Using a Lattice Model with Quantum Confinement Effect
-
Influence of the Surface Alignment Conditions and the Polymer Stabilization on the Electrooptic Characteristics of Ferroelectric Liquid Crystal Displays Exhibiting Half-V Switching : A Comparison of Photoalignment and Rubbing Technique : Structure and Mec
-
Degradation of Photoluminescence and Electron Paramagnetic Defects in Naturally Oxidized or Oxygen-Implanted Porous Silicon with Electron Spin Resonance Imaging
-
Ground Electric Field Effects on Rats and Sparrows : Seismic Anomalous Animal Behaviors (SAABs)
-
Estimation of Frequency Accuracy and Stability in a Diode Laser-Pumped Rubidium Beam Atomic Clock Using a Novel Microwave Resonant Method
-
Effect of Pulsed Substrate Bias on Film Properties of SiO2 Deposited by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition
-
ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
-
低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
-
カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
-
ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
-
プラズマ化学気相成長法による電界電子エミッター用ナノ構造薄膜の作製と評価
-
Formation of Nanofibers on the Surface of Diamond-Like Carbon Films by RF Oxygen Plasma Etching
-
ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て
-
カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用
-
ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦
-
低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
-
Low-Temperature Growth of Carbon Nanofiber by Thermal Chemical Vapor Deposition Using CuNi Catalyst
-
低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成(発光型/非発光型ディスプレイ,テーマ:ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術)
-
高知工科大学ナノテクノロジー研究所ナノ材料デバイス研究グループ(研究室紹介)
-
酸化亜鉛薄膜トランジスタ(ZnO TFT)のバイアスストレス劣化メカニズム(LSIを含む電子デバイスの評価・解析・診断,及び信頼性一般)
-
XRDを用いたカーボンナノチューブ構造体の結晶構造解析法(LSIを含む電子デバイスの評価・解析・診断,及び信頼性一般)
-
ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦
-
低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
-
カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用
-
SiO2 Insulator Film Synthesized at 100 °C Using Tetramethylsilane by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition
-
表面ボイドのミー散乱 : 小惑星の反射スペクトル
-
Correlation between Field Electron Emission and Structural Properties in Randomly and Vertically Oriented Carbon Nanotube Films
-
酸化亜鉛薄膜トランジスタのサブギャップ準位と電気特性・信頼性への影響(シリコン関連材料の作製と評価)
-
11-13 信号読出し回路に酸化亜鉛TFTを用いた有機膜積層型撮像デバイス(第11部門 情報センシング1)
-
酸化亜鉛薄膜トランジスタのサブギャップ準位と電気特性・信頼性への影響
-
Low Temperature Synthesis of Aligned Carbon Nanotubes by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition Using Pure Methane
-
Influence of Thermal Annealing on Microstructures of Zinc Oxide Films Deposited by RF Magnetron Sputtering
-
Effect of Energetic Particle Bombardment on Microstructure of Zinc Oxide Films Deposited by RF Magnetron Sputtering
-
5-7 128x96画素RGB積層有機撮像デバイスの試作(第5部門 情報センシング)
-
14-12 有機撮像デバイスの高解像度化,高効率化に向けた作製プロセスの基礎検討(第14部門情報センシング)
-
ミストCVD法によるAlOx薄膜作製に対するO3支援の効果
-
11-6 有機撮像デバイス用信号読み出し回路の低温形成技術(第11部門 情報センシング,マルチメディアストレージ,情報ディスプレイ)
-
15-1 有機撮像デバイスの高解像度化に向けた直接積層構造の開発(第15部門情報センシング1)
-
非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlO_x酸化物TFTの作製とその特性
もっと見る
閉じる
スポンサーリンク