プラズマ化学気相成長法による電界電子エミッター用ナノ構造薄膜の作製と評価
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概要
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We have developed plasma enhanced chemical vapor deposition system, which can be operated with the low pressure and the low voltage. On the optimal conditions, conical shaped nanostructures with about 1 μm height and 5 × 10<SUP>6</SUP> cm<SUP>-2</SUP> in number density were grown on Ni/Si substrate by this system. Furthermore selective growth of conical shaped nanostructures was occurred by using Ni patterned substrate. The obtained conical shaped nanostructures had good emission properties.
- 日本真空協会の論文
- 2003-03-20
著者
-
尾浦 憲治郎
大阪大学大学院
-
大倉 重治
大阪大学大学院工学研究科電子工学専政
-
平尾 孝
高知工科大学総合研究所
-
生野 孝
大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
本多 信一
大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
片山 光浩
大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
平尾 孝
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
生野 孝
阪大工
-
本多 信一
Division Of Electrical Electronic And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka U
-
Honda Shin-ichi
Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Osaka University
-
片山 光浩
Division Of Electrical Electronic And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka U
-
Katayama Mitsuhiro
Osaka Univ. Osaka Jpn
-
尾浦 憲治郎
阪大工
-
葛岡 崇
大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
白 良奎
大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
平尾 孝
大阪大学大学院工学研究科
-
白 良奎
大阪大学工学研究科
-
大倉 重治
大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻
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