気相雰囲気下の表面プロセスのイオンビームその場計測 : Ge/Si(001)水素サーファクタント媒介エピタキシー
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概要
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- 2002-12-10
著者
-
尾浦 憲治郎
大阪大学大学院
-
片山 光浩
大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
片山 光浩
Division Of Electrical Electronic And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka U
-
Katayama Mitsuhiro
Osaka Univ. Osaka Jpn
-
尾浦 憲治郎
阪大工
-
藤野 俊明
大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻
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