非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlO_x酸化物TFTの作製とその特性
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概要
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- 2013-01-24
著者
-
眞田 克
高知工科大学
-
古田 守
高知工科大学
-
川原村 敏幸
高知工科大学
-
王 大鵬
高知工科大学 電子・光工学専攻
-
眞田 克
高知工科大学 システム工学群
-
内田 貴之
高知工科大学 システム工学群
-
王 大鵬
高知工科大学 ナノテクノロジー研究所
-
川原村 敏幸
高知工科大学 ナノテクノロジー研究所
-
古田 守
高知工科大学 環境理工学群
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