ミストを利用した薄膜作製技術「ミストCVD法」の開発と「a-IGZO/AlOx構造を有する酸化物TFTの大気圧形成」
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- カーボンナノチューブの合成と電界電子放出ランプ（FEL）への応用
- カーボンナノチューブ材料と応用 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
- ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体--スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て (電子ディスプレイ)
- ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製--大気圧下、低温成長への挑戦 (電子ディスプレイ)
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用 (電子ディスプレイ)
- ファインチャネルミスト法によるZnO透明薄膜の作製とその特性(半導体エレクトロニクス)
- ミストCVD法の薄膜作製におけるファインチャネルおよび衝突混合の効果
- ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- エレワザ×エレザイ(FILE 10)ミストを利用した薄膜成長技術および加工技術の開発
- ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用
- ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦
- 高知工科大学ナノテクノロジー研究所ナノ材料デバイス研究グループ(研究室紹介)
- 酸化亜鉛薄膜トランジスタのサブギャップ準位と電気特性・信頼性への影響(シリコン関連材料の作製と評価)
- ナノテクノロジー研究所のアクティビティレポート2011
- ミストを利用した薄膜作製技術「ミストCVD法」の開発と「a-IGZO/AlOx構造を有する酸化物TFTの大気圧形成」
- ミストCVD法によるAlOx薄膜作製に対するO3支援の効果
- 11-6 有機撮像デバイス用信号読み出し回路の低温形成技術(第11部門 情報センシング,マルチメディアストレージ,情報ディスプレイ)
- 非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlO_x酸化物TFTの作製とその特性