王 大鵬 | 高知工科大学 電子・光工学専攻

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概要

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関連著者

• 王 大鵬

  高知工科大学 電子・光工学専攻

• 川原村 敏幸

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 川原村 敏幸

  高知工科大学

• 李 朝陽

  高知工科大学ナノデバイス研究所

• 王 大鵬

  高知工科大学 ナノテクノロジー研究所

• 平尾 孝

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 李 朝陽

  高知工科大

• 平尾 孝

  高知工科大

• 平尾 孝

  高知工科大 ナノデバイス研

• 眞田 克

  高知工科大学

• 古田 守

  高知工科大学

• 古田 守

  高知工科大学ナノテクノロジー研究所

• 眞田 克

  高知工科大学 システム工学群

• 内田 貴之

  高知工科大学 システム工学群

• 川原村 敏幸

  高知工科大学 ナノテクノロジー研究所

• 古田 守

  高知工科大学 環境理工学群

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著作論文

• ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体--スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て (電子ディスプレイ)
• ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て
• ナノテクノロジー研究所のアクティビティレポート2011
• ミストを利用した薄膜作製技術「ミストCVD法」の開発と「a-IGZO/AlOx構造を有する酸化物TFTの大気圧形成」
• 非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlO_x酸化物TFTの作製とその特性

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