西中 浩之 | 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻

スポンサーリンク

概要

• 西中 浩之の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻の論文著者

関連著者

• 西中 浩之

  京都大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 藤田 静雄

  半導体エレクトロニクス部門委員会

• 西中 浩之

  京都大学大学院工学研究科化学工学専攻

• 藤田 静雄

  京都大学大学院

• 川原村 敏幸

  京都大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 藤田 静雄

  京都大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 川原村 敏幸

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 藤田 静雄

  京都大学大学院工学研究科

• 藤田 静雄

  京都大学国際融合創造センター

• 谷垣 昌敬

  京都大学国際融合創造センター

• 亀谷 圭介

  京都大学国際融合創造センター

• 増田 喜男

  セラミックフォーラム(株)関西事務所

もっと見る 閉じる

著作論文

• 気相法による酸化亜鉛半導体薄膜のステップフローホモエピタキシャル成長
• ファインチャネルミスト法によるZnO透明薄膜の作製とその特性(半導体エレクトロニクス)
• ミストCVD法の薄膜作製におけるファインチャネルおよび衝突混合の効果
• ミストＣＶＤ法の薄膜作製におけるファインチャネルおよび衝突混合の効果

スポンサーリンク