藤田 静雄 | 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
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概要
関連著者
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藤田 静雄
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
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川原村 敏幸
高知工科大学 ナノデバイス研究所
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平尾 孝
高知工科大学 ナノデバイス研究所
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平尾 孝
高知工科大 ナノデバイス研
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藤田 静雄
京都大学大学院
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西中 浩之
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
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藤田 静雄
半導体エレクトロニクス部門委員会
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藤田 静雄
京大 国際融合創造セ
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平尾 孝
高知工科大
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平松 孝浩
高知工科大学 ナノデバイス研究所
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松田 時宜
高知工科大学 ナノデバイス研究所
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古田 守
高知工科大学 ナノデバイス研究所
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平尾 孝
高知工科大学総合研究所
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藤田 静雄
京都大学国際融合創造センター
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谷垣 昌敬
京都大学国際融合創造センター
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川原村 敏幸
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
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亀谷 圭介
京都大学国際融合創造センター
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増田 喜男
セラミックフォーラム(株)関西事務所
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古田 守
高知工科大学
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川原村 敏幸
高知工科大学
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織田 容征
東芝三菱電機産業システム株式会社
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松田 時宜
高知工科大学
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白幡 孝洋
東芝三菱電機産業システム株式会社
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井川 拓人
京都大学大学院 工学研究科電子工学専攻
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伊藤 大師
京都大学大学院 工学研究科電子工学専攻
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吉田 章男
東芝三菱電機産業システム株式会社
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鎌田 雄大
京都大学大学院工学研究科
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吉田 章男
東芝三菱電機産業システム(株)
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西中 浩之
京都大学大学院工学研究科化学工学専攻
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古田 守
高知工科大学ナノデバイス研究所
著作論文
- ファインチャネルミスト法によるZnO透明薄膜の作製とその特性(半導体エレクトロニクス)
- ミストCVD法の薄膜作製におけるファインチャネルおよび衝突混合の効果
- ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- エレワザ×エレザイ(FILE 10)ミストを利用した薄膜成長技術および加工技術の開発
- 酸化亜鉛薄膜トランジスタ(ZnO TFT)のバイアスストレス劣化メカニズム(LSIを含む電子デバイスの評価・解析・診断,及び信頼性一般)