小橋 宏司 | (財)ファインセラミックスセンター

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概要

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関連著者

• 安藤 豊

  (財)ファインセラミックスセンター Fct研究本部

• 小橋 宏司

  (財)ファインセラミックスセンター Fct研究本部

• 小橋 宏司

  (財)ファインセラミックスセンター

• 西林 良樹

  住友電気工業(株)半導体技術研究所

• 平尾 孝

  高知工科大学 ナノデバイス研究所

• 尾浦 憲治郎

  大阪大学大学院

• 平尾 孝

  大阪大学工学部

• 平尾 孝

  高知工科大学総合研究所

• 尾浦 憲治郎

  阪大工

• 古田 寛

  高知工科大学

• 安藤 豊

  (財)ファインセラミックセンター

• 小橋 宏司

  (財)ファインセラミックセンター

• Furuta H

  Graduate School Of Science Osaka University

• Furuta Hiroshi

  Department Of Earth And Space Science Osaka University

• 古田 寛

  大阪大学・理学部

• 西林 良樹

  FCTプロジェクト/JFCC

• 安藤 豊

  FCTプロジェクト/JFCC

• 小橋 宏司

  FCTプロジェクト/JFCC

• 尾浦 憲治郎

  大阪大学工学部

• 西林 良樹

  (財)ファインセラミックセンター

• 尾浦 憲治郎

  大阪大学

• 平尾 孝

  大阪大学

• 尾浦 憲治郎

  大阪大学工学研究科

• 古田 寛

  大阪大学工学部

• 李 奎毅

  大阪大学工学部

• 古田 寛

  NEDO/JFCC

• 古田 寛

  JFCC/NEDOフェロー

• 目黒 貴一

  住友電工伊丹研究所

• 今井 貴浩

  住友電工伊丹研究所

• 李 奎毅

  大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 今井 貴浩

  住友電気工業(株)半導体技術研究所

• 今井 貴浩

  住友電気工業 半導体研

• 横田 嘉宏

  (財)ファインセラミックスセンター FCT研究本部

• 橘 武史

  (財)ファインセラミックスセンター FCT研究本部

• 目黒 貴一

  住友電気工業(株)半導体研究所

• 今井 貴浩

  住友電気工業(株)半導体研究所

• 李 奎毅

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

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著作論文

• ダイヤモンドへの内部電極の形成とそれを用いた電子放出素子 : エミッタ電極のセルフアライン加工
• ダイヤモンドの高度な反応性イオンエッチング
• 単結晶ダイヤモンドの電子デバイス応用のための微細突起加工
• 大口径基板上ダイヤモンド薄膜の形態制御
• ナノ構造単結晶ダイヤモンドの精密加工
• 技術解説 ダイヤモンドの高度ドライエッチング技術の開発

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