広瀬 全孝 | 広島大学工学部
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概要
関連著者
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広瀬 全孝
広島大学工学部
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広瀬 全孝
産業技術総合研究所
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宮崎 誠一
広島大学工学部
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岩田 穆
広島大学工学部
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土居 武司
広島大学工学部
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柴 和利
広島大学工学部
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坂本 邦秀
広島大学工学部
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出木 秀典
広島大学工学部
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大村 昌伸
広島大学工学部
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柴 和利
NEC先端デバイス開発本部
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八坂 龍広
広島大学工学部
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申 英寿
広島大学工学部
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Hirose Masataka
広島大学工学部
著作論文
- SC-8-4 Si量子ドットの自己組織化形成とフローティングゲートMOSメモリへの応用
- FD-TD法によるLSIチップ内光配線の解析
- 高流動性プラズマ CVD による薄膜形成
- プラズマCVDにおける表面反応制御(最新のプラズマプロセス技術)
- 熱酸化ポーラスシリコンの時間分解フォトルミネッセンス
- 狭バンドギャップa-Si:H/a-Ge:H極薄多層膜の光学的及び電気的特性の評価
- 水素結合は不要 : 局在準位を介した発光再結合の可能性
- 電子・光共存型集積システムの探求
- 9.各種材料の層状成長 : 9.2シリコンウエハの自然酸化
- ポリシランの低温成長
- 反応性プラズマによる薄膜形成
- Si 自然酸化膜制御