高橋 寿史 | ルネサスエレクトロニクス生産本部
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概要
関連著者
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武田 晃一
ルネサスエレクトロニクス
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高橋 寿史
ルネサスエレクトロニクス
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林 喜宏
ルネサスエレクトロニクス
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高橋 寿史
ルネサスエレクトロニクス生産本部
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武田 晃一
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武田 晃一
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ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
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林 喜宏
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
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井上 尚也
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
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久米 一平
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
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古武 直也
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
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羽根 正巳
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
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肱岡 健一郎
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
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風間 賢也
ルネサスエレクトロニクス生産本部
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桑原 愼一
ルネサスエレクトロニクス生産本部
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渡會 雅敏
ルネサスエレクトロニクス生産本部
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ルネサスエレクトロニクス生産本部
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ルネサスエレクトロニクス生産本部
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泰地 稔二
ルネサスエレクトロニクス生産本部
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笠間 佳子
ルネサスエレクトロニクス生産本部
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ルネサスエレクトロニクス生産本部
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羽根 正巳
ルネサスエレクトロニクス(株)
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NECエレクトロニクス(株)先端プロセス事業部
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井上 尚也
大阪府立大学工学部情報工学科
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林 喜宏
NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所
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泰地 稔二
NECELプロセス技術事業部
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林 喜宏
NECシリコンシステム研究所
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小倉 卓
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風間 賢也
NECマイクロコンピュータ事業部
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相本 代志治
Necエレクトロニクス株式会社
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林 喜宏
半導体MIRAI-ASET
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林 喜宏
マイクロエレクトロニクス研究所
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林 喜宏
日本電気株式会社
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野村 昌弘
STARC
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川原 潤
Necエレクトロニクス
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羽根 正巳
NECエレクトロニクス株式会社LSI基礎開発研究所
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小畑 弘之
NECエレクトロニクス
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羽根 正巳
Necシステムデバイス・基礎研究本部
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羽根 正巳
日本電気株式会社システムデバイス研究所
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白井 浩樹
NECエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発事業部
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佐甲 隆
NECエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発事業部
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肱岡 健一郎
Necエレクトロニクス
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肱岡 健一郎
青山学院大学電気電子工学科
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久米 一平
Necエレクトロニクス
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野村 昌弘
日本電気株式会社デバイスプラットフォーム研究所
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野村 昌弘
半導体理工学研究センター(starc)
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林 喜宏
Necエレクトロニクス株式会社 Lsi基礎開発研究所
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竹内 潔
ルネサスエレクトロニクス(株)先行研究統括部
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斉藤 寿男
ルネサスエレクトロニクス
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野村 昌弘
ルネサスエレクトロニクス
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朝山 忍
ルネサスエレクトロニクス
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相本 代志治
ルネサスエレクトロニクス
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ルネサスエレクトロニクス
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伊藤 信哉
ルネサスエレクトロニクス
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白井 浩樹
ルネサスエレクトロニクス生産本部
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白井 治樹
ルネサスエレクトロニクス生産本部
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川原 潤
ルネサスエレクトロニクス 先行研究統括部
著作論文
- 高密度SRAMの微細化を可能とする階層セルアーキテクチャと多段階ワード線制御方式(SRAM,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- Low-k/Cu配線層にシリンダキャパシタを内包したロジックIP準拠・混載DRAMデバイス(配線・実装技術と関連材料技術)
- Low-k/Cu配線層にシリンダキャパシタを内包したロジックIP準拠・混載DRAMデバイス