青山 肇 | 株式会社半導体先端テクノロジーズ

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関連著者

• 青山 肇

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 青山 肇

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)超微細sr露光技術研究室(pxl研究室)

• Aoyama Hajime

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• 斎藤 修一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 塩原 守雄

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 小田 典明

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 隣 真一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 曽田 栄一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 中村 直文

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 近藤 誠一

  株式会社 熊谷組 技術研究所 建設音響グループ

• 近藤 誠一

  半導体先端テクノロジーズ

• 側瀬 聡文

  東芝株式会社

• 近藤 誠一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 松井 安次

  技術研究組合 超先端電子技術開発機構

• 中村 直文

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 青山 肇

  富士通研究所 ULSI研究部門

• 熊坂 文明

  富士通研究所 ULSI研究部門

• 射場 義人

  富士通研究所 ULSI研究部門

• 山部 正樹

  富士通研究所 ULSI研究部門

• 大木 茂久

  Ntt 通信エネルギー研究所

• 森 一朗

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 細井 信基

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 側瀬 聡文

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 田中 雄介

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 河村 大輔

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 垂水 喜明

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 森 一朗

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 細井 信基

  日本電気株式会社先端デバイス開発本部

• 菊池 幸子

  超先端電子技術開発機構

• 菊池 幸子

  技術研究組合 超先端電子技術開発機構

• 松井 安次

  超先端電子技術開発機構 厚木研セ

• 大木 茂久

  NTT通信エネルギー研究所

• 江崎 瑞仙

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)超微細SR露光技術研究室(PXL研究室)

• 中山 義則

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)超微細SR露光技術研究室(PXL研究室)

• 坪井 伸二

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)超微細SR露光技術研究室(PXL研究室)

• 渡辺 寛

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)超微細SR露光技術研究室(PXL研究室)

• 両澤 哲男

  NTT通信エネルギー研究所

• 高橋 進

  NTTアドバンストテクノロジ

• 小田 政利

  NTT通信エネルギー研究所

• 山部 正樹

  (株)富士通研究所

• 熊坂 文明

  (株)富士通研究所

• NAKAJIMA Anri

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• KAWAMURA Kazuo

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• 射場 義人

  (株)富士通研究所

• 小田 典明

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• 曽田 栄一

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• 細井 信基

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• 側瀬 聡文

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• 青山 肇

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• 田中 雄介

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• 河村 大輔

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• 隣 真一

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• 塩原 守雄

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• 垂水 喜明

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• 森 一朗

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• 斎藤 修一

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• Kawamura K

  Kochi Univ. Kochi Jpn

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著作論文

• Ta/SiC X-Ray Mask
• EUVリソグラフィーを用いた70nmピッチCu/ポーラス低誘電率膜デュアルダマシンインテグレーションの基礎検討(配線・実装技術と関連材料技術)
• 高精度電子ビーム描画装置によるX線マスク描画特性
• Flare impact and correction for critical dimension control with full-field exposure tool
• Resolution enhancement for beyond-22-nm node using extreme ultraviolet exposure tool (Special issue: Microprocesses and nanotechnology)
• Lithographic performance of extreme ultraviolet full-field exposure tool at Selete (Special issue: Microprocesses and nanotechnology)
• Isolated Nanometer-Size Si Dot Arrays Fabricated Using Electron-Beam Lithography, Reactive Ion Etching, and Wet Etching in NH_4OH/H_2O_2/H_2O
• EUVリソグラフィーを用いた70nmピッチCu/ポーラス低誘電率膜デュアルダマシンインテグレーションの基礎検討

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