Aoyama Hajime | Fujitsu Laboratories Ltd.

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概要

• 同名の論文著者
• Fujitsu Laboratories Ltd.の論文著者

関連著者

• Aoyama Hajime

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• 青山 肇

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)超微細sr露光技術研究室(pxl研究室)

• 青山 肇

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• Hokama A

  Control And Prevention Of Infectious Diseases Department Of Medicine And Therapeutics Faculty Of Med

• Hokama Akira

  琉球大学 医学部感染病態制御学

• Aoyama H

  Aset Super-fine Sr Lithography Laboratory

• Aoyama Hajime

  Super-fine Sr Lithography Laboratory Association Of Super-advanced Electronics Technologies(aset) At

• Aoyama Hajime

  Super-fine Sr Lithography Lab. Association Of Super-advanced Electronics Technologies (aset) Co Ntt

• Hokama Akira

  The First Department Of Internal Medicine Faculty Of Medicine University Of The Ryukyus

• IBA Yoshihisa

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• KUMASAKA Fumiaki

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• YAMABE Masaki

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• Iba Yoshihisa

  Fujitsu Laboratories Ltd.:aset Super-fine Sr Lithography Laboratory

• Yamabe M

  Semiconductor Leading Edge Technologies Inc.

• AOYAMA Hidetake

  Department of Electrical Engineering, Faculty of Engineering, Gunma University

• Kumasaka Fumiaki

  Fujitsu Laboratories Ltd.:aset Super-fine Sr Lithography Laboratory

• TAGUCHI Takao

  SORTEC Corporation

• Taguchi T

  Research Laboratories Nippondenso Co. Ltd.

• TAGUCHI Takao

  ASET Super-fine SR Lithography Laboratory

• TAGUCHI Takao

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• Taguchi T

  Department Of Electrical And Electronic Engineering Yamaguchi University

• 小田 典明

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 隣 真一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 曽田 栄一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 中村 直文

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 斎藤 修一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 近藤 誠一

  半導体先端テクノロジーズ

• 側瀬 聡文

  東芝株式会社

• 塩原 守雄

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 近藤 誠一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 松井 安次

  技術研究組合 超先端電子技術開発機構

• 青山 肇

  富士通研究所 ULSI研究部門

• 熊坂 文明

  富士通研究所 ULSI研究部門

• 射場 義人

  富士通研究所 ULSI研究部門

• 山部 正樹

  富士通研究所 ULSI研究部門

• 大木 茂久

  Ntt 通信エネルギー研究所

• 森 一朗

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 細井 信基

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 側瀬 聡文

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 田中 雄介

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 河村 大輔

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 垂水 喜明

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 森 一朗

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 細井 信基

  日本電気株式会社先端デバイス開発本部

• 菊池 幸子

  超先端電子技術開発機構

• 菊池 幸子

  技術研究組合 超先端電子技術開発機構

• 松井 安次

  超先端電子技術開発機構 厚木研セ

• 大木 茂久

  NTT通信エネルギー研究所

• 江崎 瑞仙

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)超微細SR露光技術研究室(PXL研究室)

• 中山 義則

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)超微細SR露光技術研究室(PXL研究室)

• 坪井 伸二

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)超微細SR露光技術研究室(PXL研究室)

• 渡辺 寛

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)超微細SR露光技術研究室(PXL研究室)

• 両澤 哲男

  NTT通信エネルギー研究所

• 高橋 進

  NTTアドバンストテクノロジ

• 小田 政利

  NTT通信エネルギー研究所

• 山部 正樹

  (株)富士通研究所

• 熊坂 文明

  (株)富士通研究所

• NAKAJIMA Anri

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• TAKEDA Masayuki

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• KAWAMURA Kazuo

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• 射場 義人

  (株)富士通研究所

• Kawamura K

  Kochi Univ. Kochi Jpn

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著作論文

• Ta/SiC X-Ray Mask
• EUVリソグラフィーを用いた70nmピッチCu/ポーラス低誘電率膜デュアルダマシンインテグレーションの基礎検討(配線・実装技術と関連材料技術)
• 高精度電子ビーム描画装置によるX線マスク描画特性
• Pattern Etching of Ta X-ray Mask Absorber on SiC Membrane by Inductively Coupled Plasma
• Etching Residues of Sputtered Ta Film Using Chlorine-Based Plasma
• Precise Stress Control of Ta Absorber using Low Stress Alumima Etching Mask for X-Ray Mask Fabrication
• Isolated Nanometer-Size Si Dot Arrays Fabricated Using Electron-Beam Lithography, Reactive Ion Etching, and Wet Etching in NH_4OH/H_2O_2/H_2O

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