青山 肇 | 技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)超微細sr露光技術研究室(pxl研究室)
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概要
関連著者
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青山 肇
技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)超微細sr露光技術研究室(pxl研究室)
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青山 肇
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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Aoyama Hajime
Fujitsu Laboratories Ltd.
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小田 典明
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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隣 真一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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曽田 栄一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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中村 直文
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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斎藤 修一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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近藤 誠一
半導体先端テクノロジーズ
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側瀬 聡文
東芝株式会社
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塩原 守雄
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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近藤 誠一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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松井 安次
技術研究組合 超先端電子技術開発機構
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青山 肇
富士通研究所 ULSI研究部門
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熊坂 文明
富士通研究所 ULSI研究部門
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射場 義人
富士通研究所 ULSI研究部門
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山部 正樹
富士通研究所 ULSI研究部門
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大木 茂久
Ntt 通信エネルギー研究所
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森 一朗
(株)半導体先端テクノロジーズ
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細井 信基
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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側瀬 聡文
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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田中 雄介
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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河村 大輔
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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垂水 喜明
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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森 一朗
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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細井 信基
日本電気株式会社先端デバイス開発本部
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菊池 幸子
超先端電子技術開発機構
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菊池 幸子
技術研究組合 超先端電子技術開発機構
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松井 安次
超先端電子技術開発機構 厚木研セ
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大木 茂久
NTT通信エネルギー研究所
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江崎 瑞仙
技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)超微細SR露光技術研究室(PXL研究室)
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中山 義則
技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)超微細SR露光技術研究室(PXL研究室)
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坪井 伸二
技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)超微細SR露光技術研究室(PXL研究室)
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渡辺 寛
技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)超微細SR露光技術研究室(PXL研究室)
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両澤 哲男
NTT通信エネルギー研究所
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高橋 進
NTTアドバンストテクノロジ
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小田 政利
NTT通信エネルギー研究所
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山部 正樹
(株)富士通研究所
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熊坂 文明
(株)富士通研究所
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NAKAJIMA Anri
Fujitsu Laboratories Ltd.
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KAWAMURA Kazuo
Fujitsu Laboratories Ltd.
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射場 義人
(株)富士通研究所
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Kawamura K
Kochi Univ. Kochi Jpn
著作論文
- Ta/SiC X-Ray Mask
- EUVリソグラフィーを用いた70nmピッチCu/ポーラス低誘電率膜デュアルダマシンインテグレーションの基礎検討(配線・実装技術と関連材料技術)
- 高精度電子ビーム描画装置によるX線マスク描画特性
- Isolated Nanometer-Size Si Dot Arrays Fabricated Using Electron-Beam Lithography, Reactive Ion Etching, and Wet Etching in NH_4OH/H_2O_2/H_2O