窪田 壮男 | 株式会社半導体先端テクノロジーズ

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概要

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• 株式会社半導体先端テクノロジーズの論文著者

関連著者

• 窪田 壮男

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 石内 秀美

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 石丸 一成

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 稲葉 聡

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 岡野 王俊

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 青木 伸俊

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 石内 秀美

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 水島 一郎

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 矢橋 勝典

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 金村 貴永

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 須黒 恭一

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 綱島 祥隆

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 青木 伸俊

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 川崎 博久

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 江口 和弘

  半導体理工学センター(STARC)

• 金子 明生

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 八木下 淳史

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 泉田 貴士

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 青木 伸俊

  マイクロエレクトロニクス研

• 水島 一郎

  株式会社東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 金村 貴永

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 青木 伸俊

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 宮野 清孝

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 稲葉 聡

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 石丸 一成

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 岡野 王俊

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 須黒 恭一

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 松尾 浩司

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 近藤 正樹

  (株)東芝 セミコンダクター社soc研究開発センター

• 石丸 一成

  (株)東芝セミコンダクター社

• 稲葉 聡

  (株)東芝セミコンダクター社

• 松下 貴哉

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 泉田 貴士

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 伊藤 早苗

  (株)半導体先端テクノロジーズ第二研究部

• 青木 伸俊

  (株)東芝soc開発センター

• 豊島 義明

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 大村 光弘

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 宮野 清孝

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 宮野 清孝

  東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 石内 秀美

  (株)東芝

• 水島 一郎

  (株)東芝 研究開発センター

• 綱島 祥隆

  (株)東芝 セミコンダクター社

• 伊藤 早苗

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 川崎 博久

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 金子 明生

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 八木下 淳史

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 伊藤 早苗

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 小野 高稔

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 矢橋 勝典

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 岩出 健次

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 窪田 壮男

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 江口 和弘

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 金子 明生

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 八木下 淳史

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 窪田 壮男

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 大村 光広

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松尾 浩司

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 岡野 王俊

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 川崎 博久

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 泉田 貴士

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 青木 伸俊

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 古賀 淳二

  東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 稲葉 聡

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 石丸 一成

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 豊島 義明

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 江口 和弘

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 須黒 恭一

  (株)東芝

• 木下 敦寛

  東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 青木 伸俊

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発セ

• 金村 貴永

  東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 江口 和弘

  (株)東芝

• 綱島 祥隆

  (株)東芝

• 水島 一郎

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 小田 典明

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 隣 真一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 中尾 慎一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 冨岡 和弘

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 曽田 栄一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 中村 直文

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 野川 潤

  NECエレクトロニクス(株)

• 川島 由嗣

  NECエレクトロニクス(株)

• 林 遼

  NECエレクトロニクス(株)

• 斎藤 修一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 木下 敦寛

  東芝研究開発センター

• 木下 敦寛

  東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 古賀 淳二

  東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 古賀 淳二

  東芝 研究開発センター

• 金村 貴永

  半導体研究開発センター:株式会社東芝

• 木下 敦寛

  東芝 研究開発センター Lsi基盤技術ラボラトリー

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著作論文

• 短TATシリル化ポーラス・シリカ(k=2.1)を用いた32nmノード対応Ultralow-k/Cuデュアルダマシン配線技術(配線・実装技術と関連材料技術)
• バルクシリコン基板上に形成したゲート長20nm、フィン幅6nmの CMOS FinFET のプロセスインテグレーション技術とデバイス特性
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• 不純物偏析Schottkyソース/ドレインを用いた高性能FinFET(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
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