江口 和弘 | 半導体理工学センター(STARC)

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概要

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関連著者

• 江口 和弘

  半導体理工学センター(STARC)

• 江口 和弘

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 江口 和弘

  (株)東芝

• 綱島 祥隆

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 金子 明生

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 石丸 一成

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 石内 秀美

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 石内 秀美

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 稲葉 聡

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 岡野 王俊

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 青木 伸俊

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 綱島 祥隆

  (株)東芝 セミコンダクター社

• 金村 貴永

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 須黒 恭一

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 関根 克行

  東芝 セミコンダクター社

• 青木 伸俊

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 川崎 博久

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 八木下 淳史

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 高柳 万里子

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 青木 伸俊

  マイクロエレクトロニクス研

• 金村 貴永

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 金子 明生

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 関根 克行

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 石内 秀美

  (株)東芝

• 犬宮 誠治

  (株)東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発センター

• 金村 貴永

  半導体研究開発センター:株式会社東芝

• 窪田 壮男

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 青木 伸俊

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 稲葉 聡

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 石丸 一成

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 岡野 王俊

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 須黒 恭一

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 近藤 正樹

  (株)東芝 セミコンダクター社soc研究開発センター

• 石丸 一成

  (株)東芝セミコンダクター社

• 稲葉 聡

  (株)東芝セミコンダクター社

• 泉田 貴士

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 伊藤 早苗

  (株)半導体先端テクノロジーズ第二研究部

• 青木 伸俊

  (株)東芝soc開発センター

• 水島 一郎

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 伊藤 早苗

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 矢橋 勝典

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 須黒 恭一

  (株)東芝

• 佐藤 基之

  東芝 セミコンダクター社

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 渡辺 健

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 山口 豪

  (株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 小山 正人

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 水島 一郎

  株式会社東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 中崎 靖

  東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 三谷 祐一郎

  東芝

• 中崎 靖

  (株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー

• 小山 正人

  (株)東芝研究開発センター

• 佐藤 基之

  (株)東芝 セミコンダクター社 半導体プロセス開発第四部

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 犬宮 誠治

  東芝

• 三谷 祐一郎

  芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 山口 豪

  (株)東芝 研究開発センター

• 中崎 靖

  (株)東芝

• 上殿 明良

  筑波大学物理工学科

• 宮野 清孝

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 松下 大介

  (株)東芝研究開発センター

• 村岡 浩一

  (株)東芝研究開発センター

• 松尾 浩司

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 吉丸 正樹

  半導体理工学研究センター

• 加藤 弘一

  (株)東芝研究開発センター新機能材料・デバイスラボラトリー

• 大島 永康

  産業技術総合研究所

• 松下 貴哉

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 佐々木 貴彦

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 大塚 伸朗

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 林 喜宏

  半導体MIRAI-ASET

• 松下 大介

  東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 豊島 義明

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 大村 光弘

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 宮野 清孝

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 宮野 清孝

  東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 村岡 浩一

  東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 村岡 浩一

  (株)東芝 研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 佐々木 貴彦

  株式会社東芝

• 水島 一郎

  (株)東芝 研究開発センター

• 遠田 利之

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 金村 貴永

  半導体研究開発センター

• 泉田 貴士

  半導体研究開発センター

• 青木 伸俊

  半導体研究開発センター

• 近藤 正樹

  半導体研究開発センター

• 伊藤 早苗

  半導体研究開発センター

• 遠田 利之

  半導体研究開発センター

• 岡野 王俊

  半導体研究開発センター

• 川崎 博久

  半導体研究開発センター

• 八木下 淳史

  プロセス技術推進センター

• 金子 明生

  プロセス技術推進センター

• 稲葉 聡

  半導体研究開発センター

• 中村 光利

  半導体研究開発センター

• 石丸 一成

  半導体研究開発センター

• 須黒 恭一

  プロセス技術推進センター

• 江口 和弘

  プロセス技術推進センター

• 石内 秀美

  半導体研究開発センター

• 川崎 博久

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 八木下 淳史

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 伊藤 早苗

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 小野 高稔

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 矢橋 勝典

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 岩出 健次

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 窪田 壮男

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 三谷 祐一郎

  (株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー

• 中村 光利

  半導体研究開発センター:株式会社東芝

• 金子 明生

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 八木下 淳史

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 窪田 壮男

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 大村 光広

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松尾 浩司

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 岡野 王俊

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 川崎 博久

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 泉田 貴士

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 青木 伸俊

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 古賀 淳二

  東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 稲葉 聡

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 石丸 一成

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 豊島 義明

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 江口 和弘

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 川崎 博久

  東芝アメリカ電子部品社

• 八木下 淳史

  東芝アメリカ電子部品社

• 石丸 一成

  東芝アメリカ電子部品社

• 西山 彰

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 西山 彰

  (株)東芝研究開発センター

• 飯島 良介

  東芝

• 平野 泉

  (株)東芝研究開発センター

• 中村 友二

  半導体理工学センター(starc)

• 木下 敦寛

  東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 西山 彰

  東芝 研究開発センター

• 小山 正人

  東芝 研究開発センター

• 井上 尚也

  半導体理工学センター(STARC)

• 林 喜宏

  半導体理工学センター(STARC)

• 廣瀬 幸範

  半導体理工学センター(STARC)

• 大島 永康

  産業総合技術研究所計測フロンティア研究部門

• 大平 俊行

  産業総合技術研究所計測フロンティア研究部門

• 鈴木 良一

  産業総合技術研究所計測フロンティア研究部門

• 大塚 伸朗

  (株)東芝 Soc研究開発センター

• 加藤 弘一

  (株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 青木 伸俊

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発セ

• 大塚 伸朗

  (株)東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 金村 貴永

  東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 上殿 明良

  筑波大数理

• 上殿 明良

  筑波大学電子物理工学系

• 大島 永康

  産総研

• 鈴木 良一

  産総研

• 大平 俊行

  産総研

• 小島 健嗣

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 福井 大伸

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 井上 尚也

  大阪府立大学工学部情報工学科

• 林 喜宏

  NECシステムデバイス研究所

• 斎藤 正樹

  ソニー(株)

• 林 喜宏

  NECシリコンシステム研究所

• 上牟田 雄一

  半導体MIRAI-ASET

• 鈴木 良一

  産業技術総合研究所

• 山崎 博之

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 上殿 明良

  筑波大学・物理工学系

• 福井 大伸

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 小島 健嗣

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 小島 健嗣

  (株)東芝セミコンダクター社

• 福島 伸

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 関根 克行

  株式会社東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 高柳 万里子

  株式会社東芝セミコンダクター社 SoC研究開発センター

• 青山 知憲

  (株)東芝セミコンダクター社

• 佐竹 秀喜

  (株)東芝先端半導体デバイス研究所

• 佐久間 究

  東芝

• 菊地 祥子

  (株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー

• 佐久間 究

  (株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー

• 林 喜宏

  マイクロエレクトロニクス研究所

• 林 喜宏

  日本電気株式会社

• 犬宮 誠治

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 木下 敦寛

  東芝研究開発センター

• 木下 敦寛

  東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 古賀 淳二

  東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 長谷川 英司

  Necエレクトロニクス(株)

• 綱島 祥隆

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 須黒 恭一

  (株)東芝ulsi研究所

• 飯島 良介

  (株)東芝研究開発センター

• 小池 正浩

  (株)東芝研究開発センター

• 井野 恒洋

  (株)東芝研究開発センター

• 上牟田 雄一

  (株)東芝研究開発センター

• 丹羽 祥子

  (株)東芝

• 鎌田 善己

  (株)東芝

• 鎌田 善己

  東芝

• 小山 正人

  東芝

• 山口 豪

  株式会社東芝LSI基盤技術ラボラトリー

• 平野 泉

  株式会社東芝LSI基盤技術ラボラトリー

• 飯島 良介

  株式会社東芝LSI基盤技術ラボラトリー

• 江口 和弘

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 三谷 祐一郎

  株式会社東芝LSI基盤技術ラボラトリー

• 福島 伸

  株式会社東芝LSI基盤技術ラボラトリー

• 古賀 淳二

  東芝 研究開発センター

• 関根 克行

  東芝セミコンダクター社

• 福島 伸

  東芝 研開セ

• 佐藤 基之

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発推進センター

• 江口 和弘

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発推進センター

• 大島 永康

  理化学研究所

• 渡部 宏治

  NECエレクトロニクス(株)

• 吉丸 正樹

  半導体理工学センター(starc)

• 高 大為

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 福島 伸

  (株)東芝

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著作論文

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• バルクシリコン基板上に形成したゲート長20nm、フィン幅6nmのCMOS FinFETのプロセスインテグレーション技術とデバイス特性(先端CMOSデバイス・プロセス技術)
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• 不純物偏析Schottkyソース/ドレインを用いた高性能FinFET(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
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• 低Hf濃度キャップ層(Hf=6%)形成によるHfSiONゲート絶縁膜の電気特性および信頼性向上とそのメカニズム
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