福井 大伸 | 東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

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概要

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• 東芝セミコンダクター社システムLSI事業部の論文著者

関連著者

• 福井 大伸

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 高柳 万里子

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 福井 大伸

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 須藤 裕之

  (株)東芝セミコンダクター社soc研究開発センター

• 大内 和也

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 安達 甘奈

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 外園 明

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 渡辺 健

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 清水 敬

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 森 伸二

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 小熊 英樹

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 石内 秀美

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 渡辺 由美

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 馬越 俊幸

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 豊島 義明

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 外園 明

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 吉村 尚郎

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 大内 和也

  SoC研究開発センター

• 清水 敬

  プロセス技術推進センター

• 森 伸二

  プロセス技術推進センター

• 馬越 俊幸

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 豊島 義明

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 馬越 俊幸

  (株)東芝 Ulsi研究所

• 石内 秀美

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 石内 秀美

  (株)東芝

• 犬宮 誠治

  (株)東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発センター

• 綱島 祥隆

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 関根 克行

  東芝 セミコンダクター社

• 犬宮 誠治

  東芝

• 清水 敬

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 外園 明

  (株)東芝 セミコンダクター社 Soc研究開発センター

• 中村 典生

  Necエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 安武 信昭

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 藤原 実

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 佐々木 俊之

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 宮野 清孝

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 稲葉 聡

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 加藤 善光

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 佐々木 俊行

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 吉村 尚郎

  (株)東芝 セミコンダクター社システムLSI開発センター

• 玉置 直樹

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 岡野 王俊

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 松田 聡

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 村越 篤

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 井谷 孝治

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 飯沼 俊彦

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 工藤 知靖

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 柴田 英紀

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 谷口 修一

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• Matsushita T.

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 東 篤志

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 親松 尚人

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 須黒 恭一

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 勝又 康弘

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 池田 昌弘

  Necエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 松田 聡

  (株)東芝セミコンダクター社システムlsi第一事業部システムlsiデバイス技術開発部

• 猪原 正弘

  東芝

• 猪原 正弘

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 本多 健二

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 安武 信昭

  (株)東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 稲葉 聡

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 稲葉 聡

  (株)東芝セミコンダクター社

• 松下 貴哉

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 藤原 実

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 東 篤志

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 谷口 修一

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 中山 武雄

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 吉田 健司

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 猪原 正弘

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 渡辺 竜太

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 大石 周

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 佐貫 朋也

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 君島 秀樹

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 岡本 和之

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 藤田 悟

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 大谷 寛

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 森藤 英治

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 小島 健嗣

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 五十嵐 弘文

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 三宅 慎一

  NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 平井 友洋

  NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 岩本 敏幸

  NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 中原 寧

  NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 木下 功一

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 森本 寿喜

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 小林 幸子

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 姜 帥現

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 今井 清隆

  NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 岩井 正明

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 松岡 史倫

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 飯沼 俊彦

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 岡野 王俊

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 東 篤志

  東芝セミコンダクター社

• 加藤 善光

  (株)東芝 Ulsi研究所

• 柴田 英紀

  (株)東芝 Ulsi研究所

• 宮野 清孝

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 宮野 清孝

  東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 勝又 康弘

  東芝セミコンダクター社

• 小山 正人

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 犬宮 誠治

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 綱島 祥隆

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 水島 一郎

  株式会社東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 水島 一郎

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 関根 克行

  株式会社東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 福井 大伸

  株式会社東芝セミコンダクター社 SoC研究開発センター

• 高柳 万里子

  株式会社東芝セミコンダクター社 SoC研究開発センター

• 綱島 祥隆

  (株)東芝 セミコンダクター社

• 金子 明生

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 江口 和弘

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 岩本 敏幸

  NEC シリコンシステム研究所

• 須黒 恭一

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 西山 彰

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 小山 正人

  (株)東芝研究開発センター

• 佐藤 基之

  (株)東芝 セミコンダクター社 半導体プロセス開発第四部

• 須黒 恭一

  (株)東芝

• 佐藤 基之

  東芝 セミコンダクター社

• 関根 克行

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 西山 彰

  (株)東芝研究開発センター

• 丹羽 祥子

  (株)東芝

• 鎌田 善己

  (株)東芝

• 平井 友洋

  NEC Electronics Corporation

• 岩本 敏幸

  NEC Electronics Corporation

• 鎌田 善己

  東芝

• 東 篤志

  東芝

• 古田 健司

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 松岡 史倫

  東芝

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 池田 昌弘

  Necエレクトロニクス

• 西山 彰

  東芝 研究開発センター

• 小山 正人

  東芝 研究開発センター

• 江口 和弘

  半導体理工学センター(STARC)

• 金子 明生

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 佐貫 朋也

  株式会社東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 岩本 俊幸

  Nec Electronics Corporation

• 江口 和弘

  (株)東芝

• 森藤 英治

  株式会社東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 本多 健二

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 岩本 俊幸

  Necエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 小林 幸子

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 中原 寧

  Necエレクトロニクス

• 綱島 祥隆

  (株)東芝

• 小山 正人

  (株)東芝

• 西山 彰

  (株)東芝 研究開発センター

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著作論文

• 40nm low standby power CMOS技術(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
• 14nmゲートCMOS技術 : poly-SiGe ゲート電極、及びNiSiを用いた低温プロセスによる性能向上
• 極薄膜NO Oxynitrideゲート絶縁膜とNi SALICIDEプロセスを用いた高性能35nmゲート長CMOS
• プラズマ窒化プロセスを用いた極薄ゲート絶縁膜形成における反応メカニズムの考察とさらなる薄膜化の検討
• プラズマ酸化とプラズマ窒化を用いた、低消費電力CMOSデバイス向けHfSiONゲート絶縁膜の形成(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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