吉村 尚郎 | (株)東芝 セミコンダクター社システムLSI開発センター
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概要
関連著者
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吉村 尚郎
(株)東芝 セミコンダクター社システムLSI開発センター
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豊島 義明
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吉村 尚郎
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(株)東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所 デバイス技術研究所
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中山 武雄
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大内 和也
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(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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森 伸二
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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小熊 英樹
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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佐々木 俊之
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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宮野 清孝
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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石内 秀美
(株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター
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渡辺 由美
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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馬越 俊幸
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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加藤 善光
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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佐々木 俊行
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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福井 大伸
(株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター
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玉置 直樹
(株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター
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飯沼 俊彦
(株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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須黒 恭一
(株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター
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安武 信昭
(株)東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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外園 明
株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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福井 大伸
東芝セミコンダクター社システムLSI事業部
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清水 敬
プロセス技術推進センター
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森 伸二
プロセス技術推進センター
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飯沼 俊彦
株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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馬越 俊幸
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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加藤 善光
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豊島 義明
東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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宮野 清孝
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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石内 秀美
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(株)東芝
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須黒 恭一
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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圷 晴子
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須黒 恭一
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清水 敬
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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外園 明
(株)東芝 セミコンダクター社 Soc研究開発センター
著作論文
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- ED2000-134 / SDM2000-116 / ICD2000-70 SbとInの高角度ハローイオン注入による80nmゲート長CMOSの実現
- 0.15μm世代以降のサリサイドプロセス
- ED2000-134 / SDM2000-116 / ICD2000-70 SbとInの高角度ハローイオン注入による80nmゲート長CMOSの実現
- N2Oオキシナイトライドプロセスが微細MOSFETトランジスタ特性に与える影響
- N_2O オキシナイトライドプロセスが微細MOSFETトランジスタ特性に与える影響